二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS G5 MESA #9411952 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS G5 MESA是一種多室高溫等離子體增強化學氣相沈積（PECVD）反應器。它旨在提高半導體制造等高溫高壓工藝的效率和可靠性。該反應器設計用於在溫度低於950°C到室溫的情況下沈積矽和其他材料層，同時分別使用高壓和低壓等離子體。反應堆采用同時三室配置，允許按順序處理多個晶片或基板。它還配有一個自動排氣熄火系統，以確保過程的穩定性，並配有一個微型負載鎖，能夠對多個晶片進行裝卸。反應堆使用微波功率，施加在頂層甲板上，帶有安裝在2英寸轉盤上的磁控管，射頻（RF）功率通過連接反應堆下層甲板的酸性質量載荷線（MLL）指向基板。反應堆有四重頻率發生器，提供13.56 MHz至60 MHz的功率，以及三重源氣體輸送系統，有一個標準的四閥源氣箱用於蝕刻過程，三個獨立源用於反應物氣體。該反應器還能夠在沈積過程中利用氮和氧的端點檢測（EPD），對過程端點提供更好的控制，並允許以更高的精度進行沈積操作。反應堆室采用304不銹鋼建造，內壁和底座分別塗有耐磨陶瓷和熔融二氧化矽絕緣體。在腔室的上部安裝了冷卻淋浴板，以提供工藝氣體的均勻冷卻，可移動的頂板允許方便地進入腔室進行維護和制造。此外,兩個石英視圖允許查看該過程。AMAT Centura DPS G5 MESA反應堆是為極精確的沈積過程而設計的，在半導體工業中因其提高的性能和可靠性而有著公認的往績。它能夠在>950°C到室溫的溫度下生產高質量的矽、鋁等材料層，適用於高-k、低-k電介質、金屬柵極堆棧等應用。此外，它還提供了一種經濟高效的沈積層的方法，使得能夠制造各種半導體器件。