二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS I #9358215 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS I是一種化學隔離、高性能的沈積和蝕刻反應堆設備，旨在簡化先進微電子器件的制造。該系統實現了復合半導體材料的高通量和可靠的外延生長。它結合了原子層沈積（ALD）和化學氣相沈積（CVD）工藝在單個單元中的優點，給最終用戶無與倫比的蝕刻和沈積控制。該機具有先進的工藝控制和計量模塊，保證了復雜設備結構在先進基板上的精確重復制造。AMAT Centura DPS I是為快速熱處理、原子層沈積和化學氣相沈積應用而構建的。該平臺具有廣泛的工藝能力,其多功能性使其非常適合制造各種微電子設備,包括內存、邏輯和類似電源的設備。該工具利用有效的傳送機制同時支持多種配方的執行，使其成為大批量生產的理想選擇。應用材料Centura DPS I反應器具有垂直排列的反作用室（RFV），容積高達8升。它由六塊電路板組成,每塊電路板使用模塊化體系結構相互連接,該體系結構旨在簡化資產和流程維護。整個模型被封閉在密封環境中，可以調整以適應高達170°C的溫度和小於1.5 mTorr的減壓。反應堆有一個集成的質量流控制器（MFC），由使用分布式智能操作的智能設備級控制系統提供動力。這使得反應堆能夠在廣闊的溫度範圍內實現精確的熱控制，可達到的最低步驟小至10毫克/分鐘。該單元還提供了可編程脈沖模式和集成的智能Q控制設計，用於無與倫比的蝕刻過程控制。反應堆機還使用了雙室氣體遮蔽清洗工具，在保護基板的同時提供對蝕刻/沈積表面的高均勻性控制。資產的高級軟件還為用戶提供晶圓映射功能、預測Q控制以及從負載端口到加載端口的自動晶圓跟蹤。Centura DPS I是一個令人振奮的工具,它使用戶能夠提高芯片性能和效率,並提供一流的產量。該模型具有可重復、可靠、均勻的沈積和蝕刻能力，已被證明是芯片制造設施和晶片規模生產的寶貴資產。