二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II AE Minos #9366381 待售

AMAT（應用材料/應用）AMAT/應用材料Centura DPS II AE Minos Reactor是為半導體器件制造而設計的全自動電化學蝕刻設備。該系統由基於凝膠的等離子體源組成，能夠提供高的選擇性和極好的蝕刻均勻性。它具有超高真空（UHV）加工室，多晶片盒式裝載機，以及高活力的工藝池，以提供可靠、可重復的結果。特高壓加工室裝有單晶片負載鎖，設計用於裝載直徑不超過8英寸、最大不超過15英寸的晶片。腔室對1.3 x 10-3 torr至150 torr之間的工作壓力具有公差，意味著保持清潔的環境，以最大限度地提高蝕刻結果的均勻性。多個晶片盒式裝載機可以自動對單個晶片進行定心、跟蹤和移動,從而提供高達8英寸寬的晶片的高速裝卸。此外，熱開關閘閥允許快速加載和卸載多個晶片批次，同時保持過程真空。AMAT Centura DPS II AE Minos反應堆設計為有效、安全地蝕刻。它提供了一個擴展的蝕刻化學清單，使蝕刻參數完全可變化。它有一個專門的自動化層作為後盾,以優化流程配方並確保可重復的性能。該機具有內置氣體控制閥，以優化蝕刻速率和側壁角度，而用戶友好的等離子體源控制為當前蝕刻過程提供了額外的靈活性。此外，APPLIED MATERIALS Centura DPS II AE Minos Reactor帶有眾多的安全特性。它配備了一個高級流程控制（APC）工具，以防止因意外事件導致的失控狀況，以及各種旨在提醒人員註意潛在問題的視覺警報和警告系統。而且，該資產整合了多層次的安全門模型，以防止對外來材料產生意想不到的反應和反應。最後，AMAT/APPLICED Materials（AMAT/APPLIED）Centura DPS II AE Minos Reactor是一種堅固、全自動的電化學蝕刻設備，設計用於高度精確的半導體器件制造。它提供了廣泛的蝕刻化學和工藝參數，加上可靠的安全系統和專門的自動化層可重復結果。