二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II AE Poly G3 #9195071 待售
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ID: 9195071
晶圓大小: 12"
優質的: 2007
Poly etcher, 12"
(3) Process chambers
Factory interface configuration
Front end PC type: 4.0 FEPC
FIC PC Type: CPCI
(3) Load ports
A3 Type: Atmospheric robot KAWASAKI single fixed robot
Side storage: Right and left
Mainframe configuration
IPUP Type: ALCATEL A100L
Gas panel type: Standard
VHP Robot: Dual blade
MF PC Type: CL7
Chamber configuration:
Chamber A:
Chamber model: DPS II Poly
Bias gen: AE APEX 1513, 13.56 MHz
Bias match: AE 13.56 MHz, 3 kv navigation
Source gen: AE APEX 3013, 13.56 MHz
Source match: AE 13.56 MHz, 6 kv navigation
Turbo pump: STP-A2503PV
Throttle valve: VAT Pendulum valve DN-320
FRC: MKS FRCA-52163310
ESC: Dual zone ceramic ESC
End point type: EyeD IEP
Chamber B / C:
Chamber model: DPS II Poly
Bias gen: AE APEX 1513, 13.56 MHz
Bias match: AE 13.56 MHz, 3 kv navigation
Source gen: AE APEX 3013, 13.56 MHz
Source match: AE 13.56 MHz, 6 kv navigation
Turbo pump: STP-A3003CV
Throttle valve: VAT Pendulum valve DN-320
FRC: MKS FRCA-52163310
ESC: Dual zone ceramic ESC
End point type: EyeD IEP
Missing parts:
AXIOM Chamber
RF Source
VODM
Throttle valve
2007 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS II AE Poly G3是一種高度先進的等離子體蝕刻反應器,設計用於半導體工業。該反應堆特別適合於涉及500 nm以下高長寬比特性的工藝,因此非常適合最現代芯片設計的需求。該反應堆是Centura DPS II系列的一部分,采用模塊化設計,使其能夠滿足流程優化帶來的各種應用。反應堆包含一個WF-loadable容器,這意味著可以支持各種選項,例如非標準晶圓尺寸或石英方向。該反應堆采用先進的AMAT Endura 5500動力輸送系統,性能卓越,控制精確,均勻性高。這使客戶能夠在每批產品中實現高蝕刻率和出色的結果重復性。電力輸送系統還具有多頻靈活性,用戶可以根據自己的特定需求進行調整。反應堆具有矽基柵極兼容性,符合300 mm標準,適合多種芯片設計。它還采用集成泵和氣體分析儀系統等高級功能進行設計,以最大限度地提高性能和運行效率,從而確保可以優化過程窗口以達到最高產量。反應堆有幾個選項和功能,如基板卡盤,可選的源燈和等離子體監測系統。它還具有內置的安全機制,以確保始終保持最佳安全和生產力。AMAT Centura DPS II AE Poly G3是一種高度先進和可靠的反應堆,旨在滿足半導體行業的需求。它提供卓越的性能和靈活性,並具有為滿足特定應用程序要求而量身定制的模塊化設計。適用於從500 nm以下特性到300 mm芯片的設計。這使得它成為各類半導體應用的絕佳選擇。
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