二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II #139909 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II
ID: 139909
Etchers, 12" (4) chambers Stored in cleanroom.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS II反應器是一種電子束物理氣相沈積(e-PVD)工具,配備了3-He容量的負載鎖。該反應器的設計目的是為先進的聚氯乙烯工藝提供大尺寸晶圓上大的均勻沈積速率。它具有可配置的雙噴射器模塊,最多可同時執行四個過程,從而實現高產量和吞吐量。反應堆的4英寸原位源具有多種應用,包括濺射、多層沈積和與所有真空工藝技術兼容的納米結構的高速率沈積。AMAT Centura DPS II反應堆是一種高真空設備,運行壓力為1..5 x 10-5 Torr(2 mbar)。它配備了超高真空(UHV)線性校正離子吸收器系統,用於改進基板/基板界面粘附。這個高真空單元保持一致的晶圓溫度均勻性和均勻性。APPLIED MATERIALS CENTURA DPS+II還具有高速晶圓旋轉功能,雙轉速範圍為5至75 rpm和200至300 rpm。Centura DPS II反應堆裝有多區加熱機,用於對個別工序的精確熱控制。這保持了一個統一的工藝環境,提高了沈積速率的均勻性。加熱器控件與各種基板兼容,在各種沈積溫度下實現高精度工藝。此外,AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA DPS+II提供了三維溫度剖面測量功能,使用戶能夠最大限度地減少溫度剖面的變化。AMAT CENTURA DPS+II具有獨特的晶圓對接工具,具有預載機構和低級機動式電梯。這保證了晶片的精確和可重復的裝卸而不受汙染。APPLIED MATERIALS Centura DPS II還配備了車載機械端口和群集端口,可輕松與其他沈積系統集成。CENTURA DPS+II是一種高效可靠的工具,是各種PVD過程的理想選擇。它能夠生產高質量、均勻的薄膜層和具有尖銳過渡的層,允許高產生產。
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