二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II #293705866 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS II是一種設計用於處理高性能集成電路的單晶圓、超高真空（UHV）沈積設備。該系統針對經濟高效的生產進行了優化,以最低的運營成本提供了快速的周期時間和高吞吐量。它提供了一套過程模塊，包括電子回旋共振（ECR）等離子體源、遠程感應耦合和ECR等離子體（RCP/ECP），以及具有集成旋流噴射器的遠程源氣體噴射（RSGI）。AMAT Centura DPS II UHV沈積裝置專為先進半導體器件的低成本、大批量生產而設計，對於硝化鈦、​​的移植鈦和其他材料能夠達到高達1nm/s的沈積速率。機器是高度可配置的，允許最多兩個電離粒子的來源被添加到過程中。該工具可容納0.25「至8」的各種基材尺寸，並可調整個別工藝參數，以優化特定金屬氧化物、介電和屏障材料的工藝性能。該資產還具有為快速流程開發和流程優化而設計的流程控制模型（PCS）。利用實時流程數據收集設備對PCS進行了優化,該設備直接在流程的各個點獲取數據,以確保產品的一致性和可靠性。這樣就可以在沒有停機時間的情況下立即優化和調整流程參數。APPLIED MATERIALS CENTURA DPS+II配備了最新的技術，包括高解析度的四口袋可選單晶圓傳輸機器人、全範圍的電腦過程控制以及動態過程窗口。多級調制器（MSM）系統可在整個沈積過程中實現獨立的源氣體控制。它還提供多達四個等離子體來源，以便能夠沈積各種材料，同時對先進的設備結構進行遠程等離子體表面處理。AMAT CENTURA DPS+II旨在提供高吞吐量和出色的過程控制,使制造商能夠以最低的單位成本提供最高級別的過程質量和效率。這個單元提供了單晶片工藝開發的終極解決方案，從研發到以最具成本效益的方式進行大批量生產，從而能夠更快、更高效地制造先進的半導體器件。