二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II #293705867 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS II是一種等離子體增強化學氣相沈積（PECVD）反應器，用於半導體工業中的薄膜和層的沈積，對均勻性和共形性有精確的控制。DPS II反應器利用射頻（RF）激發和微波等離子體生成來精確控制沈積速率、保形性和均勻性。這允許了各種各樣的半導體應用，包括先進的器件結構如晶體管、RAM和互連。DPS II反應堆由一個密封室組成，該密封室容納一個端裝式氣體分配系統。端置氣體分配系統由氣體噴射口、排氣口、加熱器組成。氣體通過氣體註入口註入腔內，通過一系列擋板均勻分布在整個腔內。射頻和微波功率的組合被提供給充滿氣體的腔室，以產生高密度的等離子體，用於將所需的膜或層沈積到工藝晶片上。DPS II反應堆還設有偏置點發生器。該裝置提供可調節的直流偏置電壓，可以調整以控制晶圓上沈積的輪廓和均勻性。另外，采用壓力控制閥調節腔室壓力，以實現最佳沈積。DPS II以其先進的射頻、微波和偏置點發生器技術提供了出色的過程控制和一致性。它可用於沈積各種先進半導體結構的薄膜和層。末端氣體分配系統也保證了沈積的均勻性。所有這些特性結合在一起，使DPS II成為先進半導體沈積工藝的絕佳選擇。