二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II #9213077 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II
反應爐
製造商
AMAT / APPLIED MATERIALS
模型
Centura DPS II
ID: 9213077
Poly etchers Chamber A, B, C: Model: DPS II Bias generator: AE Apex 1513 13.56 MHz, maximum 1500 W Bias match: AE 13.56 MHz, 3 kV Navigate Source generator: AE Apex 3013 13.56 MHz, maximum 3000 W Source match: AE 13.56 MHz, 6 kV Navigation Lid: Ceramic lid, dual gas nozzle Turbo pump: EDWARDS STP-A3003 CV Throttle valve: VAT Pendulum valve DN-320 FRC: MKS FRCA-52163310, 500/500 1/4 VCR ESC: Dual zone ceramic ESC Cathode chiller: SMC POU Wall chiller: SMC INR-496-016C Process kit coating: Anodize coating Cooling: HT 200 / FC 40 Chamber D: Model: Axiom Source generator: 5000W Source match: AE Match (RF System) Throttle valve: Throttling gate valve ESC: Pedestal heater Mainframe configuration: IPUP Type: TOYOTA 100L Gas panel type: NextGen VHP Robot: Dual blade MF PC type: CPCI Factory interface configuration: Frontend PC type: 306 M Server FIC PC Type: 306 M Server (3) Load ports Atmospheric robot: KAWASAKI Single fixed robot (A3 Type) Side storage: Right and left side MFC Configuration: EAS-52A Gas name Max flow MFC type Gas 1 CL2 300 SC-24 Gas 2 NF3 50 SC-23 Gas 3 SF6 100 SC-24 Gas 4 HBR 500 SC-24 Gas 5 N2_20 20 SC-21 Gas 6 N2_200 200 SC-23 Gas 7 O2_50 20 SC-22 Gas 8 O2_400 400 SC-24 Gas 9 HE 500 SC-24 Gas 10 CHF3 200 SC-24 Gas 11 CF4 300 SC-24 Gas 12 AR 500 SC-24 EAS-52B Gas name Max flow MFC type Gas 1 CL2 300 SC-24 Gas 2 NF3 50 SC-23 Gas 3 SF6 100 SC-24 Gas 4 HBR 500 SC-24 Gas 5 N2_20 20 SC-21 Gas 6 N2_200 200 SC-23 Gas 7 O2_50 20 SC-22 Gas 8 O2_400 400 SC-24 Gas 9 HE 500 SC-24 Gas 10 CHF3 200 SC-24 Gas 11 CF4 300 SC-24 Gas 12 AR 500 SC-24 EAS-52C Gas name Max flow MFC type Gas 1 CL2 300 SC-24 Gas 2 NF3 50 SC-23 Gas 3 SF6 100 SC-24 Gas 4 HBR 500 SC-24 Gas 5 N2_20 20 SC-21 Gas 6 N2_200 200 SC-23 Gas 7 O2_50 20 SC-22 Gas 8 O2_400 400 SC-24 Gas 9 HE 500 SC-24 Gas 10 CHF3 200 SC-24 Gas 11 CF4 300 SC-24 Gas 12 AR 500 SC-24 EAS-52D Gas name Max flow MFC type Gas 1 - - - Gas 2 - - - Gas 3 - - - Gas 4 - - - Gas 5 - - - Gas 6 - - - Gas 7 O2 10000 SC-27 Gas 8 4%H2/N2 5000 SC-26 Gas 9 - - - Gas 10 N2 1000 SC-25.
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AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS II是一種原位等離子體加工反應器設備，設計用於精密的等離子體輔助沈積和蝕刻操作。該系統提供先進設備制造所需的高精度熱和等離子體控制。AMAT Centura DPS II從頭開始構建,以提供可靠且可重復的過程結果。該裝置可精確控制工藝參數，如溫度、壓力、射頻功率、氣流和混合物。它是一個源摻雜的反作用室，它具有堅固的電源，允許在高功率和低功率設置之間無縫過渡。該機還具有一個用於控制基板溫度的氣冷基板支架，以及一個測量室內實時工藝條件的數字探頭。APPLIED MATERIALS CENTURA DPS+II也是一個直觀的工具，可以實時編程和監控。RF功率和氣流設置可以通過觸摸屏圖形界面進行調整，各種過程參數可以在整個過程中進行監控和記錄。該資產還可以與PC或PLC集成以實現自動控制。APPLIED MATERIALS Centura DPS II是這些應用的強大工具,能夠生產產量極高的設備,同時仍能保持出色的設備性能。該型號還提供了一系列先進的安全功能，包括超壓警報和氣體混合監測器，以確保安全和受控操作。AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA DPS+II具有簡單的設置和用戶友好的界面,是尋求精確過程控制和一致結果的用戶的絕佳選擇。
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