二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II #9213084 待售
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ID: 9213084
Metal etchers
Model
Channel A, B: DPS II
Channel C, D: AXIOM
Chamber A, B:
Model: DPSII metal
Bias generator: AE Apex 1513 13.56 MHz, maximum 1500 W
Bias match: AE 13.56 MHz,3 kV navigation
Source generator: AE APEX 3013 13.56 MHz, max 3000 W
Source match: AE 13.56 MHz, 6 kV navigation
Lid: Ceramic lid, single gas nozzle
Turbo pump: STP-A2503PV
Throttle valve: VAT Pendulum valve DN-250
ESC: Dual zone ceramic ESC
Endpoint type: Monochromatic
Cathode chiller: SMC POU
Wall chiller: SMC INR-496-016C
Process kit coating: Anodize coating
Cooling: HT 200 / FC 40
Chamber C, D:
Model: ASP
Source generator: DAIHEN ATB-30B
Source match: DAIHEN SMA -3001
Throttle valve: Throttling gate valve
ESC: Pedestal heater
VODM
Mainframe configuration:
IPUP Type: ALCATEL A100L
Gas panel type: NextGen
VHP Robot: Dual blade
MF PC Type: CL7
Factory interface configuration:
Frontend PC type: 4.0 FEPC
FIC PC Type: CPCI
(3) Load ports
Atmospheric robot: YASKAWA Track robot
Side storage: Right side
MFC Configuration:
EWE-02A Gas name Max flow MFC type
Gas 1 BCL3 200 SC-24
Gas 2 NF3 100 SC-23
Gas 3 - - -
Gas 4 CL2 400 SC-24
Gas 5 C2H4/HE 400 -
Gas 6 SF6 200 SC-24
Gas 7 O2 100 AANGD40W1
Gas 8 CF4 100 AAPGD40W1
Gas 9 AR 400 SC-23
Gas 10 N2 50 SC-22
Gas 11 N2 300 SC-24
Gas 12 CHF3 50 SC-23
EWE-02B Gas Name Max flow MFC type
Gas 1 BCL3 200 SC-24
Gas 2 NF3 100 SC-23
Gas 3 - - -
Gas 4 CL2 400 SC-24
Gas 5 C2H4/HE 400 -
Gas 6 SF6 200 SC-24
Gas 7 O2 1000 SC-25
Gas 8 CF4 100 SC-23
Gas 9 AR 400 SC-23
Gas 10 N2 50 SC-22
Gas 11 N2 300 SC-24
Gas 12 CHF3 50 SC-23
EWE-02C Gas Name Max flow MFC type
Gas 7 O2 10000 SC-27
Gas 8 CF4 300 SC-24
Gas 9 - - -
Gas 10 N2 1000 SC-25
EWE-02D Gas Name Max flow MFC type
Gas 1 - - -
Gas 2 - - -
Gas 3 - - -
Gas 4 - - -
Gas 5 - - -
Gas 6 - - -
Gas 7 O2 10000 SC-27
Gas 8 CF4 300 SC-24
Gas 9 - - -
Gas 10 N2 1000 SC-25.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS II是一種模塊化晶圓處理設備,用於半導體和光學行業的各種應用。它由兩個主要部件組成,一個壓板和一個反應堆室。壓板是加工工具和晶片之間的接口,必須從系統中引入和移除。它便於將底物對準和放置到反應堆室內,以確保準確處理。它還包括晶片處理程序、光學後對準和浴液組件等功能,以進一步改善整個過程。反應堆室是機組的主要加工區域,設計用於適應多種反應條件。它包括一個加工室、壓板傳遞臂、反作用室蓋、進/出閥、排氣口以及諸如遠程等離子體源、自動GC和射頻發生器等可選功能。反作用室蓋為腔內加工提供了受控環境,允許對溫度和壓力進行精確控制。進/出閥作為壓板和反應室之間的接口。它打開和關閉允許基板進入和離開腔室。排氣口允許在處理過程中排出任何反應性氣體。AMAT Centura DPS II提供了一系列優點,例如通過模塊化方法提高了設計靈活性,增加了反應室蓋的過程控制,改進了晶圓的處理和與壓板的對齊。它還支持可重復的進程、更快的周期時間和更高的吞吐量。該機專為保持清潔的操作環境而設計,使其適合幹式等離子體蝕刻工藝。總體而言,應用材料CENTURA DPS+II是一種可靠和用戶友好的反應堆工具,可以配置為適應一系列應用。它的模塊化設計使用戶能夠根據特定需求輕松調整設置,從而提供靈活性和控制性。資產可以提高吞吐量,提高產品收益率,減少制造時間和成本。
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