二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II #9257444 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS II是一種強大的極高密度等離子體源（EHDP）反應器，設計用於執行原子層沈積（ALD）、等離子體增強化學氣相沈積（PECVD）和低壓化學氣相沈積（LPCVD D）過程。該反應堆主要用於生產薄膜半導體器件，例如由介電材料和導電材料組成的集成電路和晶體管。反應堆具有兩個等離子體生成系統--一個電感耦合等離子體源和一個磁性限制直流輝光放電源。ICP源用於材料的濺射（蝕刻），DCGD源用於薄膜在晶圓上的ICP增強沈積。反應堆的模塊化設計可以方便地更換元件和靈活地選擇加工參數。AMAT Centura DPS II為大批量生產運行提供高效、高吞吐量、低成本的處理。它具有先進的自動采樣功能，可以提供樣品的詳細表征並實現工藝優化。此外,它還具有高功率驅動系統,可實現可重復和精確的膠片增長率。反應堆還具有多室設計，主室、泵房和預室，以便於維護和操作。每個腔室都配有自己的烹飪系統，可最大限度地減少氣體排放，確保對溫度和壓力的高精度控制。反應堆還設有自動晶片裝卸系統，可消除晶片的手動處理，減少汙染或損壞的機會。反應堆被安置在10級潔凈室中，為最佳薄膜生長或沈積提供低汙染環境。住房還旨在降低能耗，最大限度地提高能效，從而長期節約成本。綜上所述，APPLIED MATERIALS CENTURA DPS+II是一種功能強大的EHDP源反應器，旨在使高容量、高精度的半導體器件得以生產。它的模塊化設計在工藝選擇上提供了靈活性，其先進的特性，如自動采樣和晶片裝卸，使得它甚至適合生產最先進的半導體器件。