二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II #9390588 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS II反應堆是為半導體制造而設計的多區快速熱反應堆系統。它用於從沈積到塗料活化、薄膜氧化到蝕刻等多種過程。DPS II在高溫下運行,實現了快速熱處理（RTP）,這是現代半導體制造中必不可少的一步。它可以在幾秒鐘內達到高達1150°C的溫度，遠高於傳統的熔爐系統。因此,它允許嚴格控制納米級的工藝條件,從而能夠開發創新的高性能設備。DPS II的多區配置包括三個獨立的加工區--一個集成的抗熱敏感器、一個紅外加熱燈和一個氧化室。這種設計使工藝條件得到了更好的控制,並實現了較小的腳印和低成本操作。此外,幾個獨立的溫度區域允許用戶定義給定過程的最佳熱剖面。該系統還具有自適應過程控制（APC）功能,這是一項專有技術,通過根據不斷變化的工藝條件動態調整溫度和壓力剖面來確保統一處理。這將快速熱處理（RTP）的不良副作用降至最低，例如砷分離、粒子汙染和微結構量化。DPS II還利用先進的光學和光譜反饋系統使熱剖面自動化，並實時優化工藝參數。這使用戶能夠快速定義最佳流程,並有助於確保高產量和產品質量。最後,DPS II也適用於復雜的過程集成和自動化。它利用標準和專有軟件協議,以及各種接口選項,包括網絡I/O和EtherCAT。這允許實時監測過程變量，並與外部系統集成，大大簡化反應堆的運行，並允許最大的運行效率。