二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II #9390589 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II
ID: 9390589
Poly etchers.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS II是為半導體加工應用而設計的高真空雙單晶圓處理反應器。它為用戶提供了一整套關鍵蝕刻和沈積過程的工具。利用創新技術,它能夠實現精確和一致的最終結果。DPS II配備了與「環形」等離子體源結合工作的閉室設備,以實現均勻的高溫等離子體處理和最大的工藝均勻性。這種閉室系統還最大限度地減少了反應性氣體利用率,從而增加了單位吞吐量。它由3個獨立的鑰匙構成,以實現手動操作,並在操作機器時提供更高水平的安全。DPS II旨在修復先進的微電子設備。它具有用戶友好、可編程的控件,帶有專用窗口和觸控菜單屏幕。簡單的選擇過程可以方便地批量選擇晶片,並在每次運行前自動驗證參數。該反應堆還包括一個PECVD能力,允許進一步的過程擴展。該工具的設計具有很高的兼容性。它與多種材料兼容,如氧化矽、氮化矽、低k電介質、介電自旋、多晶矽、碳化矽和矽​​金銨。其超低壓技術確保了可靠高效的組織工程。獲得專利的Close-Proximity電源資產在晶圓周圍創建了一個高效的等離子體護套,允許在蝕刻和沈積過程中獲得更高的離子能量。這樣可以更好地清潔和蝕刻選擇性。它的熱控制模型能夠在很短的時間內精確控制腔室溫度。設備先進的物料輸送系統提供可靠一致的物料輸送。DPS II能夠同時運行多達3UF個光譜儀,因此用戶可以實時測量、監控和控制沈積速率、均勻性和組成。它包括高級晶圓處理功能,例如增強的端點檢測以進行過程調整。其高效的負載鎖也提供了更高的吞吐量。該設備還易於維護,具有用戶維護部件和用戶自上而下的清潔功能。頂部和底部的熱板為不受熱溫影響的過程提供快速、可靠的加熱。它的高級安全配置使得訪問敏感數據變得困難。最後,AMAT Centura DPS II是一種單晶片、高真空反應器,旨在高效加工高性能微電子器件。它具有各種創新技術、可編程控制、與各種材料的高度兼容性以及先進的安全功能。該反應堆也易於維護,為高效生產提供高吞吐量。
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