二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS R1 #9188285 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS R1是一種化學氣相沈積（CVD）反應器，設計用於在集成電路和器件上沈積超薄均質膜。該設備特別適用於需要精密和高質量薄膜的沈積應用。它具有多個獨立的高真空室和一個雙頻射頻電源，可以在大面積上實現最佳的過程控制和均勻性。系統的主腔室包含兩個射頻源，一個充當高頻源，另一個充當低頻源。低頻源提供高能脈沖，使較厚層的沈積能夠進行電路保護或減少高功率激光寫入造成的傷害。兩個源可以同時使用，在整個反應區域實現均勻沈積。腔室連接到一個石英敏感器，它能夠支撐直徑不超過12英寸的晶片。該機組配備先進的氣控機，具有自動溫壓控制功能。這使用戶能夠精確控制沈積過程，確保材料的最佳汽化和沈積。該工具還配備了一個計算機控制的優化室，用於在整個工作區域內均勻地沈積。該腔室可裝有一系列樣品儲存器，非常適合不同的應用。AMAT Centura DPS R1專為各種CVD薄膜而設計，包括矽、鎢、鈦、矽化物和鋁。它也被用於沈積氮化物和氧化物層，使用不同氣體註入系統的能力確保了最優膜特性。該資產適用於高速生產線以及實驗室研究應用。該模型可以快速編程為各種配置。此外，它還具有多種安全功能，旨在確保操作員安全，非常適合生產環境。該設備還具有過程監測和調整機制，以確保最大效率和可靠性。