二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS R1 #9188290 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS R1
ID: 9188290
晶圓大小: 8"
優質的: 1997
Etcher, 8" Process: Poly, metal etch 1997 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS R1是一種下一代半導體生產反應堆,設計用於設備開發和制造。DPS R1是一種先進的高通量反應堆,設計用於在一個綜合設備中進行沈積和蝕刻過程。反應堆將高效可靠的過程控制與廣泛可靠的過程模塊結合在一起,以實現最大程度的過程靈活性。AMAT Centura DPS R1非常適合先進的開發過程優化、設備開發和制造。該系統利用集成的工藝模塊吊艙(PMP)允許各種處理選項和靈活性。利用PMP,反應堆可以在一個集成單元中進行沈積和蝕刻過程。反應堆還能夠運行廣泛的沈積和蝕刻應用,包括廣泛的材料(Si、Ge、SiGe、GaAs、III-V、Nitrides、Poly-Si和Silicon-Nitride)。APPLIED MATERIALS Centura DPS R1旨在在盡可能短的周期內提供高速性能,同時實現最高級別的一致性和一致性。該反應堆還利用了獲得專利的晶片到冷板溫度控制功能,該功能為晶片提供快速、均勻的加熱/冷卻。這種獨特的特性確保了快速、一致的反應時間,並防止沈積和蝕刻過程中的不均勻性。Centura DPS R1能夠利用各種源氣體,包括H2、Ar、Cl2、NF3、O2和XeF2。這種靈活性使反應堆能夠在各種材料系統中為正面和背面過程執行各種沈積和蝕刻過程。此外,該機器在刀具配置方面提供了靈活性,包括單源或雙源晶片處理以及單視場或大視區成像系統。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS R1是先進設備開發和半導體生產設施的理想資產。它非常可靠、快速、靈活,同時提供出色的效果。反應堆采用高度先進的工藝控制和高效的工藝模塊組合,提供高度穩定、優化的工藝。該模型提供了其他OPC和EBR選項,以微調您的工藝參數並確保最佳設備性能。
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