二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS #198321 待售

ID: 198321
晶圓大小: 8"
優質的: 1997
Polysilicon etcher, 8" (3) Chambers Centura 1 mainframe Position A: DPS Poly R1 Position B: DPS Poly R1 Position D: DPS Poly R1 Position F: Orientor Narrow body load lock HP Robot NBLL's (2) Generator racks (1) System controller RF generators, RF55 Source RF Gen, RF20R Leybold mag drive L turbo controller Lid lift present 1997 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS工具是一種生產規模和經過研究驗證的化學氣相沈積(CVD)反應器。該反應堆提供了一個先進的等離子體增強沈積平臺,用於生產就緒的晶圓廠生產率水平的各種材料和應用。AMAT Centura DPS設備具有無與倫比的沈積能力,具有低壓、創新的沈積室和等離子體發生器。沈積室壓力可根據最佳工藝選擇性進行調節,脈沖調制的可編程波形發生器可對獨特的等離子體源進行精確調諧。作為一個額外的好處,該系統有能力支持反應性和非反應性過程,包括化學、原子層和物理蒸氣沈積。APPLIED MATERIALS Centura DPS單元具有先進的多區域反應堆設計,具有多個可尋址平面。這提供了整個基板表面的統一過程,以及前所未有的特征重現性。反應堆的多功能性允許將電介質、半導體和金屬沈積在廣泛的基板尺寸上。Centura DPS機器采用先進的負載儲物櫃技術和真實的原位過程控制,確保了所有材料的準確沈積,並具有很高的可重復性。直觀的圖形用戶界面允許操作員控制從沈積參數到氣體流量和壓力的整個過程。這樣可以獲得準確和可重復的結果。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS工具的高級工藝性能也針對更高的吞吐量進行了優化。此高級資產還支持遠程模型控制和高級數據分析,為當今的現代生產環境提供了靈活性和更高的效率級別。AMAT Centura DPS設備的好處很多。該系統的多功能性、簡潔性和吞吐量將提供一致的重復結果和更高的過程準確性。此外,該單元還提供超高真空水平,從而實現了工藝的最佳控制和可重復性。這樣可以節省成本,同時實現最大產量和靈活性。
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