二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS+ #9233287 待售
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ID: 9233287
晶圓大小: 8"
優質的: 2000
Metal etcher, 8"
Mainframe: Centura Phase2
Chamber A & B:
DTCU: EDTCU
Gate & throttle valve: Pentium & throttle valve, VAT
EDWARDS STP-H1303C Turbo pump
Pumping tube: Heated
ENI QMW-25 Generator (Source)
ENI OEM-12B Generator (Bias)
ESC: Ceramic
EPD: Monochromator
Chamber C&D (ASP+):
ASTEX AX-2115 Microwave generator
Tuner: Auto tuner
Chamber E: Fast cooldown
Chamber F: Orieter
Xfer: VHP Robot
L/L: Narrow tilt-out
Gas panel:
Chamber A & B:
Gas / Size / Model
N2 / 20sccm / 8160
O2 / 500sccm / 8160
Ar / 200sccm / 8160
CHF3 / 20sccm / 8160
SF6 / 200sccm / 8160
BCL3 / 100sccm / 8160
CL2 / 200sccm / 8161
Chamber C & D
Gas / Size / Model
N2 / 500sccm / 8160
O2 / 5000sccm / 8160
N2 / 1000sccm / 8160
VDS
Missing parts:
Process chamber chiller & hose
EPD Monitor rack
2000 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS+是一種先進的等離子體增強化學氣相沈積（PECVD）設備，旨在滿足下一代OLED顯示器和其他微電子應用的需求。AMAT Centura DPS+提供了適合任何沈積要求的選擇腔室，有一個設計用於沈積基本電池的Delta腔室，一個設計用於復合半導體沈積的sigma腔室，以及一個設計用於沈積帶條帶狀靶標的整流膜的Stripe腔室。這樣可以實現廣泛的沈積能力,從薄膜到厚度超過2毫米的薄膜。該設備具有許多提高處理速度和產量的功能,例如多種過程控制功能,包括使用超精確控制系統進行溫度控制、微米級均勻性和可重復性、實時自動鎖定負載、變頻射頻濺射電源以及可定制的端點檢測。此外，該系統半自動運行，可以相應編程，以處理各種形狀和大小的晶片。它具有低溫處理的特點，等離子體活化氣體放電增強了沈積速率、均勻性和質量。該裝置使用的高純度工藝氣體具有良好的薄膜均勻性和工藝穩定性。APPLIED MATERIALS CENTURA DPS+還提供了卓越的等離子體控制,具有完全可調節的功率和壓力水平,允許用戶微調工藝參數以實現最佳的材料性能。特殊的多室群集體系結構可實現高通量群集處理。此外，高精度的集成對準夾具和自動晶圓加載平臺最大限度地減少了人工勞動。總體而言，AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA DPS+為下一代OLED顯示器沈積和其他微電子需要提供了先進的處理能力。該機具有多種特點，為沈積和蝕刻要求提供了高效可靠的平臺。
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