二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS+ #9233293 待售
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單擊可縮放
ID: 9233293
晶圓大小: 8"
優質的: 1999
Poly etcher, 8"
Mainframe: Centura Phase2
Chamber A, B & C:
DTCU: ES-DTCU
Gate & throttle valve: TGV, VAT
EDWARDS STP-A2203 Turbo pump
Pumping tube: Heated
ADVANCED ENERGY Altas 2012 Generator (Source)
ENI ACG-6B Generator (Bias)
ESC: Ceramic
EPD: IEP
Chamber F: Orieter
Xfer: HP Robot
L/L: Narrow, heated, tilt-out
Hoist: Local hoist
Gas panel:
Chamber A & C:
Gas / Size / Model
HBr / 200sccm / 8160
Cl2 / 200sccm / 8160
Cl2 / 50sccm / 8160
SF6 / 50sccm / 8160
N2 / 20sccm / 8160
Ar / 200sccm / 8160
CF4 / 100sccm / 8161
He / 20sccm / 8160
O2 / 100sccm / 8161C
Chamber B:
Gas / Size / Model
HBr / 200sccm / 8160
Cl2 / 200sccm / 8161C
Cl2 / 50sccm / 8160
SF6 / 50sccm / 8160
N2 / 20sccm / 8160
Ar / 200sccm / 8160
CF4 / 100sccm / 8161C
He / 20sccm / 8160
O2 / 100sccm / 8161C
Missing parts: Process chamber chiller & hose
1999 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS+是一種最先進的反應堆，用於執行各種半導體制造工藝。它是一個介電沈積產品套件，為廣泛的半導體器件應用提供快速準確的介電膜沈積。該設備能夠在矽、石英、玻璃、聚酰亞胺等各種基板上產生鈍化層。AMAT Centura DPS+的最大場尺寸為25平方英寸，最小劑量能力為1微安。其反應堆具有四象限旋轉濺射構型，確保所有基板的均勻處理。該系統還配備了高速濺射源,能夠達到高達1nm/s的采用率。這有助於提高設備的高吞吐量能力。該機還具有先進的熱控制，可實現沈積過程的精確溫度控制，從而產生更加均勻一致的結果。APPLIED MATERIALS CENTURA DPS+還具有一套基於化學的清潔和預清潔功能,允許高效的晶圓處理。它還配備了觸摸屏監視器，允許在處理周期內實時監控各種參數。該工具符合UNI-Core、SEMI和GCR等各種協議標準。它還具有ISO-9002認證,並以II級潔凈室等級運行,確保在整個處理周期內取得一致和可靠的結果。Centura采用堅固、高耐腐蝕的不銹鋼框架，確保在最惡劣的環境中使用壽命長、操作可靠。總體而言，CENTURA DPS+是一個堅固可靠的反應堆，旨在提供對各種半導體制造工藝的高通量和精確控制。適用於研究和工業應用，對工藝提供精確的溫度和化學控制。Centura的規格令人印象深刻,是創建高質量和可靠設備的最佳工具之一。
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