二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS+ #9233299 待售
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單擊可縮放
ID: 9233299
晶圓大小: 8"
優質的: 2000
Poly etcher, 8"
Mainframe: Centura2
Chamber A, B & C:
DTCU: ES-DTCU
Gate & throttle valve: TGV, VAT
EDWARDS STP-A2203 Turbo pump
Pumping tube: Heated
ADVANCED ENERGY Altas 2012 Generator (Source)
ENI ACG-6B Generator (Bias)
ESC: Ceramic
Chamber D (ASP+):
Tuner: Auto tuner
Chamber E: Fast cool down
Chamber F: Orieter
Xfer: VHP
L/L: Narrow, heated, tilt-out
Hoist: Local hoist
Gas panel:
Chamber A, B & C:
Gas / Size / Model
Cl2 / 200sccm / 8161
HBr / 200sccm / 8160
Cl2 / 50sccm / 8160
NF3 / 100sccm / 8161
N2 / 20sccm / 8161
CF4 / 50sccm / 8161
SF6 / 50sccm / 8161
O2 / 100sccm / 8161
He / 20sccm / 8161
Ar / 200sccm / 8160
Missing parts:
Process chamber chiller & hose
(3) EPD
VDS
ASP+ Chamber:
Microwave generator
Gas panel
2000 vintage.
AMAT（應用材料/應用）材料AMAT/應用材料Centura DPS+反應堆是一種工業領先的中型PECVD（等離子體增強化學氣相沈積）反應堆，用於薄膜的擴散和沈積。它是一種可縮放和自成一體的工具，用於半導體薄膜、金屬、薄膜和其他材料的沈積。AMAT Centura DPS+的獨特之處在於它能夠提供一系列用戶友好的主動氣體和晶片加載配置。活性氣體模塊允許在給定壓力下選擇和使用更多的氣體，從而使沈積過程更加有效和受控。此外,手動/自動加載選項可以根據需要在不同晶圓尺寸之間切換。這種功能組合使用戶能夠根據特定的設計要求快速調整和定制流程。APPLIED MATERIALS CENTURA DPS+反應堆還具有產生等離子體的強大混合聚類源。該源能夠產生高密度、單調極化的等離子體，滿足PECVD工藝的嚴密溫度、壓力和射頻功率要求。這種混合聚類源利用一種自一致的數學技術來生成等離子體，從而最大程度地減少閃過的可能性，並確保目標基板的覆蓋一致。APPLIED MATERIALS Centura DPS+還具有復雜的診斷套件,能夠準確監控所有關鍵過程參數。此診斷程序套件可用於確認所有流程參數均符合規格,並且沈積流程正在正常運行。診斷套件包括射頻級、晶圓溫度、沈積速率、源功率、壓力和等離子體分布測量。AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA DPS+是一種用途廣泛且易於使用的反應堆,能夠提供可靠且可重復的過程控制。它使用戶能夠選擇、定制和控制薄膜、金屬和其他材料的沈積。它結合了強大的混合群集源、用戶友好的主動氣體和晶片加載配置,以及復雜的診斷套件,非常適合跨多個批次提供一致和可靠的過程控制。
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