二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS #9301836 待售
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單擊可縮放
ID: 9301836
晶圓大小: 12"
優質的: 2005
Etcher, 12"
(3) FI Port
FI Robot: TBC
PC: TBC
Thickness metrology: NANOMETRICS 9010 Integrated metrology (1000-00829)
Mainframe: Centura AP
Xfer robot: VHP Ceramic blade
Chamber A: DPS Tsubasa
Chamber B: DPS Advance edge
EDWARDS Turbo pump
Controller: SCV-1500
Gate valve: VAT
RF Generator: ADVANCED ENERGY Apex 1513 and Apex 3013
Gases:
MFC No / Make / Gases / SCCM
31 / CELERITY / SiCl4 / 100
32 / CELERITY / Cl2 / 100
33 / CELERITY / CH2F2 / 100
34 / CELERITY / BCl3 / 400
35 / CELERITY / NF3 / 100
36 / CELERITY / H2 / 200
37 / CELERITY / HBr / 500
38 / CELERITY / C4F8 / 100
39 / HORIBA / O2 / 200
40 / CELERITY / Ar / 200
41 / CELERITY / N2 / 50
42 / CELERITY / CF4 / 200
43 / CELERITY / CHF3 / 200
44 / CELERITY / H2 / 200
Chamber D: Axiom
MFC No / Make / Gases / SCCM
37 / CELERITY / O2 / 10000
38 / CELERITY / 4%H2/N2 / 500
40 / CELERITY / N2 / 10000
Chiller:
Chamber A and B: SMC INR-498-043A
Chamber A: SMC INR-498-016
Chamber B: SMC INR-498-003D
Xfer and L/L pump: TOYOTA T100L
Missing parts:
Hard Disk Drive (HDD)
(3) Dry pumps
2005 vintage.
AMAT/AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS是一種多功能反應器，設計用於半導體制造過程中材料的蝕刻和沈積。AMAT Centura DPS作為一個綜合的獨立單元運行,能夠為多個流程應用程序創建經濟高效且可靠的處理解決方案。DPS的雙室設計使其非常適合在多個層面上使用，使其能夠同時浸入基板，並執行復雜的蝕刻操作和材料沈積任務。雙室優化，最多支撐7條工藝氣線；第一個腔室內襯石英，運行溫度在75至325攝氏度之間，第二個腔室支撐多達16個石英托盤，運行溫度為-10至600攝氏度。APPLIED MATERIALS Centura DPS的設計采用了一系列全面的控制,可實現各種工藝職責的最佳性能。例如，腔室設有真空、匹配、吹掃控制功能；溫度控制器；以及多氣體計功能。此外，系統的空腔設計使得單晶片或批量裝載機易於集成，分散的機械設計保證了快速、方便的維護。APPLIED MATERIALS/Centura DPS支持各種制造工藝，如蝕刻、氧化物生長、氧硝化物沈積、激光升空和烷基矽酸鹽沈積。當涉及到氧化物灰化、氧化物沈積、氮化物沈積、剝離或蝕刻或脫落等任務時，可靠性不會受到損害。此外,AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS的構建考慮到了卓越的安全性和環境關註；它是一種經UL批準的裝有緊急關閉閥和非易燃工藝氣體的裝置。AMAT/APPLIED MATERIALS/AMAT Centura DPS是一系列制造應用的理想選擇。它提供了完整的過程控制和靈活性,結合了簡單的維護和強大的可靠性。這臺機器的設計是為了使半導體加工過程的運行魯棒，可靠性和長期性能，優化效率和質量。
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