二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS #9301844 待售
網址複製成功！
單擊可縮放
ID: 9301844
晶圓大小: 12"
優質的: 2007
Etcher, 12"
PC: IBM 0090-04959 and 0090-04958 Server type
Mainframe: Centura AP
Chamber A: DPS Cerena (High temperature heater)
EDWARDS Turbo pump
Controller: SCV-1500
Gate valve: VAT
RF Generator: ADVANCED ENERGY Apex 1513
KASHIYAMA MU-603X Dry pump
Gases:
MFC No / Make / Gases / SCCM
1 / UNIT INSTRUMENTS / O2 / 20
2 / UNIT INSTRUMENTS / O2 / 200
3 / UNIT INSTRUMENTS / CHF3 / 400
4 / UNIT INSTRUMENTS / He / 400
5 / UNIT INSTRUMENTS / CF4 / 300
6 / UNIT INSTRUMENTS / Ar / 400
7 / UNIT INSTRUMENTS / BCl3 / 400
8 / UNIT INSTRUMENTS / HBr / 500
9 / UNIT INSTRUMENTS / NF3 / 200
10 / UNIT INSTRUMENTS / Cl2 / 200
11 / UNIT INSTRUMENTS / H2 / 400
12 / UNIT INSTRUMENTS / SiCl4 / 70
13 / UNIT INSTRUMENTS / CH4 / 70
14 / UNIT INSTRUMENTS / CH2F2 / 100
15 / UNIT INSTRUMENTS / CO / 100
16 / UNIT INSTRUMENTS / N2 / 100
17 / UNIT INSTRUMENTS / SF6 / 100
19 / UNIT INSTRUMENTS / CH3F / 100
20 / UNIT INSTRUMENTS / HBr / 300
22 / UNIT INSTRUMENTS / CH2F2 / 100
23 / UNIT INSTRUMENTS / O2 / 200
24 / UNIT INSTRUMENTS / CHF3 / 400
FPC / MKS / N2 / 1000
Chamber C: DPS G5
EDWARDS Turbo pump
Controller: SCV-1500
Gate valve: VAT
RF Generator: ADVANCED ENERGY Apex 1513
Dry pump missing
Gases:
MFC No / Make / Gases / SCCM
1 / UNIT INSTRUMENTS / O2 / 20
2 / UNIT INSTRUMENTS / O2 / 200
3 / UNIT INSTRUMENTS / CHF3 / 300
4 / UNIT INSTRUMENTS / He / 400
5 / UNIT INSTRUMENTS / CF4 / 300
6 / UNIT INSTRUMENTS / Ar / 400
7 / UNIT INSTRUMENTS / BCl3 / 400
8 / UNIT INSTRUMENTS / HBr / 500
9 / UNIT INSTRUMENTS / NF3 / 300
10 / UNIT INSTRUMENTS / Cl2 / 200
11 / UNIT INSTRUMENTS / H2 / 200
12 / UNIT INSTRUMENTS / SiCl4 / 70
13 / UNIT INSTRUMENTS / CH4 / 30
14 / UNIT INSTRUMENTS / CH2F2 / 100
15 / UNIT INSTRUMENTS / CO / 100
16 / UNIT INSTRUMENTS / N2 / 100
17 / UNIT INSTRUMENTS / N2 / 200
18 / UNIT INSTRUMENTS / CH3F / 100
19 / UNIT INSTRUMENTS / SF6 / 100
20 / UNIT INSTRUMENTS / HBr / 300
21 / UNIT INSTRUMENTS / CH4 / 30
22 / UNIT INSTRUMENTS / CH2F2 / 100
23 / UNIT INSTRUMENTS / O2 / 200
24 / UNIT INSTRUMENTS / CF4 / 300
FPC / MKS / N2 / 1000
Chamber D: ASP (RF type)
RF Generator: ADVANCED ENERGY
KASHIYAMA MU-603X Dry pump
Gases:
MFC No / Make / Gases / SCCM
37 / UNIT INSTRUMENTS / N2 / 1000
38 / UNIT INSTRUMENTS / N2 / 1000
40 / UNIT INSTRUMENTS / O2 / 10000
Missing parts:
Hard Disk Drive (HDD)
Dry pump
2007 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS（動態工藝設備）反應堆是一種用於制造半導體、內存芯片和微處理器等微電子元件的工藝系統。反應堆利用一系列工業級材料，創造了一個獨立的環境，在其中可靠地進行微電子特征層的蝕刻、沈積和清洗。DPS腔室具有廣泛的功能,專為特定項目的輕松配置而設計,提供卓越的可重復性、均勻性和容錯能力。在AMAT Centura DPS裝置中，使用高效、低發電量的加熱器來產生高達250°C的腔室溫度。溫度對剝離抗蝕劑和光致抗蝕劑的清潔很重要。加熱器包括一個強制對流風扇以確保室內溫度均勻，以及一個可伸縮的淋浴噴嘴以均勻散熱。此外，加熱器還包括了防止熱失控的水冷能力。使用專有的工藝室氣溶膠輸送機控制室的溫度，防止汙染。氣溶膠輸送工具的工作原理是將進入的空氣分成固體和蒸氣，然後控制腔室的溫度和濕度。它還利用雙過濾元件，以確保進入腔室的汙染物是該過程所必需的汙染物。魯棒控制器資產設計方便，具有用於調整工藝參數和腔室條件的單撥盤旋鈕。它能夠控制室內的壓力、溫度和濕度等參數，以及其他一些特定於工藝的參數。控制器模型的靈活性也使得在制造過程中為不同的應用領域和過程監控定制配方變得容易。應用材料Centura DPS是微電子制造工藝的重要組成部分.它確保精確地進行蝕刻和沈積過程，同時還提供了一個環境，在這種環境中，可以安全地、高效地完成抗剝離和清潔。Centura DPS擁有廣泛的功能、可配置的特性和集成的控制設備,是微電子制造的絕佳選擇。
還沒有評論