二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DxL #117144 待售
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單擊可縮放
ID: 117144
晶圓大小: 8"
優質的: 2000
PECVD SiO2 system, 8"
Specifications:
(3) Chambers: SiO2
Cool down chamber
HP robot
Notched wafers
Gases:
Ch A, B, C: SiH4, NF3, N2O, CF4, N2, Ar
Front and rear monitors
SMC chiller
(3) RF generators: ENI OEM 12B
(2) EBARA A30W dry pumps
(3) EBARA A70W dry pumps
Process kits
English software
All cables and hoses
Packing list:
Mainframe
System controller
RF generator rack
Rear monitor
Rear monitor base
Front monitor set
Chamber A ceramic shield
Chamber A susceptor
Chamber A ceramic edge ring
Chamber A ceramic hoop
(4) Chamber A ceramic lift pins
Chamber B ceramic shield
Chamber B susceptor
Chamber B ceramic edge ring
Chamber B ceramic hoop
(4) Chamber B ceramic lift pins
Chamber C ceramic shield
Chamber C susceptor
Chamber C ceramic edge ring
Chamber C ceramic hoop
(4) Chamber C ceramic lift pins
Cables 1-12
Water hose
Chamber A pump
Chamber B pump
Chamber C pump
T/M pump
L/L pump
SMC chiller
Cables 13-20
Power: 208VAC, 3 phase, 50 / 60 Hz
De-installed Q4 2009
Currently warehoused / plastic-wrapped
2000 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DxL是一個革命性的半導體反應堆，為微電子器件制造提供了一個用途廣泛、成本效益高的解決方案。它由AMAT經過驗證的具有Centura XL工程設備的PECVD平臺提供動力。憑借其先進的功能,AMAT Centura DxL為超高長寬比處理設定了新的標準。APPLIED MATERIALS Centura DxL旨在提供最高的沈積速率和均勻性,最大限度地提高生產吞吐量和產量。其高性能的PECVD平臺運行最高530°C，允許沈積廣泛的氧化物、氮化物和金屬薄膜。該反應堆將APPLIED MATERIALS專利的IntelliPath控制系統與車載溫度和壓力控制相結合，使薄膜沈積具有均勻性和可重復性。Centura DxL還提供多種高長寬比處理選項,包括平面化和各向異性陣列。該反應器同時對工藝室和上層基板溫度進行獨立控制，從而能夠精確控制薄膜沈積和平面化。先進的晶圓船裝卸裝置能夠快速、高效地裝卸晶圓。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DxL反應堆具有先進的特性,使其成為微電子裝置制造中用途最廣泛的反應堆之一。具有沈積各種氧化物、氮化物和金屬的能力，具有極高的精確度和可重復性。高長寬比處理能力使其成為MEMS和納米技術等超高長寬比應用的理想選擇。該機還易於使用和維護，擁有其IntelliPath、車載溫度和壓力控制以及先進的晶圓船裝卸工具。
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