二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DxL #9294554 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DxL Reactor是一種半導體器件，設計用於加工電子元件制造中使用的材料。AMAT Centura DxL依靠化學氣相沈積（CVD）技術以精確的速率、厚度和保形性將薄膜沈積到陶瓷基板上。該反應堆結合了工藝自動化、可靠的性能和提高的生產率，提供了優異的產量和改進的工藝控制。APPLIED MATERIALS Centura DxL是以​​氙氣為載體，氮氣、氫氣、氧氣為反應物氣體，以沈積各種材料的薄膜。反應堆以熱壁配置運行，由四條加熱氣體管線和兩條加熱淋浴管線輸送反應物氣體。系統配備50.8厘米（20英寸）和101.6厘米（40英寸）石英管，使其能夠加工各種尺寸的基板。Centura DxL沈積的薄膜厚度均勻，厚度大於0.3 µm的薄膜公差± 0.1 µm。反應堆的沈積速率從0.0001 µm/min到20 µm/min不等。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DxL還集成了高級診斷和控制組件,以確保過程的一致性和可靠性。其先進的過程控制系統能夠自動優化過程以最大限度地提高產量。先進的生命周期監控系統使用戶能夠隨時間跟蹤流程和設備參數,從而使用戶能夠解決潛在問題並在問題發生之前采取預防措施。AMAT Centura DxL反應器非常適合半導體工業的應用，包括晶體管閘門薄膜的沈積、介電沈積和金屬化。由於其可靠的性能、過程自動化和提高的生產率,APPLIED MATERIALS Centura DxL Reactor是任何在沈積過程中需要精確控制的應用的理想選擇。