二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DxZ #114705 待售

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ID: 114705
晶圓大小: 8"
優質的: 1998
TEOS system, 8" 4 channel Narrow body load locks Manual lid hoist HP Robot CH A, B, C – DxZ PE BSG Oxide Direct drive throttle valve AE RFG 2000-2V Astex Astron remote microwave clean 20torr Baratron 1000torr Baratron Gases (Unit MFCs): O2 10 SLM B, C, & D / O2 3 SLM A NF3 2 SLM Ar 5 SLM N2 1 SLM He 3 SLM He 10 SLM STEC LFCs TEOS Seriplex Gas Control CH E – Multi slot cool down Bottom feed exhaust Facilities bottom feed Currently crated (Mainframe, Pump Rack & Cables X2, Heat Exchanger, System controller, Quartz carton) Warehoused 1998 vintage.
AMAT/AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DxZ半導體反應器是一種沈積蝕刻反應器,旨在提供更高的生產率和一流的沈積蝕刻性能。它能夠處理各種高級工藝和應用,如高級制圖、清潔、氧化和氮化工藝,以及選擇激光支持的工藝。AMAT Centura DxZ具有較大的腔室大小和可擴展的工藝能力,使其成為現有和新的高吞吐量生產戰略的理想平臺。APPLIED MATERIALS Centura DxZ反應堆由多頻、多磁控管射頻源供電,並融合了一系列驅動技術,提供卓越的工藝靈活性,使操作從超低壓沈積到高密度各向異性蝕刻。它還具有一套先進的過程控制和數據采集系統,使制造商能夠精確、高效地監視和控制其過程。這種應用材料反應器的多功能性是由於其獲得專利的創新多頻射頻磁控管源,它提供完全的等離子體控制,而不受其他應用頻率的影響,從而允許高度復雜、量身定制的沈積和蝕刻工藝。它具有獲得專利的高級等離子體阻抗調諧器,可確保最佳的工藝結果利用率。該反應堆旨在通過嵌入式工藝配方和晶圓處理使最具挑戰性的等離子體工藝完全自動化。此功能使用戶能夠快速開發和快速部署生產過程配方。再者,由於它的低應力處理,它可以用於包括3D結構在內的廣泛的半導體幾何形狀,而不必擔心應力引起的缺陷。Centura DxZ是一種高度靈活的工藝工具,具有多種特定於應用程序的增強功能,例如群集功能和對最新技術(如高級陣列和高k介電材料)的支持。憑借其先進的工程設計和一套先進的過程控制和數據采集系統,它是支持最具挑戰性的設計和技術節點的理想平臺。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DxZ旨在最大限度地提高生產率和產量,使其能夠快速輕松地融入現代制造環境。其業界領先的流程功能、自動化級別和可擴展的功能確保制造商能夠快速高效地實現其生產目標。
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