二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DxZ #9093320 待售
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ID: 9093320
CVD System, 8"
(3) Chambers: DxZ
Ch. A:
MANOMETER:100/2
HEATER: AL
CLEAN METHOD: AE 2000-2V
Pressure METHOD: Direct drive throttle valve
CH. B:
MANOMETER:100/2
HEATER: AL
CLEAN METHOD: AE 2000-2V
Pressure METHOD: Direct drive throttle valve
CH. D:
MANOMETER:100/2
HEATER: AL
CLEAN METHOD: AE 2000-2V
Pressure METHOD: Direct drive throttle valve
1st Monitor: Through the wall
2nd Monitor: Stand alone
Narrow body loadlock
HP Robot
OTF
Valves: Unit MFCs
Filters: Milipore
Regulators: Veriflo
System cabinet exhaust: Top
Single line drop
Gas Pallet Config:
CH.A SIZE MODEL CH.B SIZE MODEL CH.D SIZE MODEL
SiH4 500sccm Stec MFCs SiH4 500sccm Stec MFCs SiH4 500sccm Stec MFCs
NH3 200sccm Unit MFCs NH3 200sccm Unit MFCs NH3 200sccm Unit MFCs
NF3 1 Slm Unit MFCs NF3 2 Slm Unit MFCs NF3 1 Slm Unit MFCs
N2O 500sccm Unit MFCs N2O 500sccm Unit MFCs N2O 500sccm Unit MFCs
N2 5 Slm Unit MFCs N2 5 Slm Unit MFCs N2 5 Slm Unit MFCs
Process: nitride deposition (Nit. Pass.)
1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DxZ 2.5MW PECVD Reactor設計用於沈積無定形、微孔、矽和氮化碳等先進材料。它具有高度的可配置性,並為各種應用程序提供沈積解決方案。AMAT Centura DxZ反應堆是一種寄生的平行板反應堆，利用磁化等離子體產生均勻持久的沈積氣體流動。這樣可以優化所有表面的沈積速率和保形塗層。該反應堆設計用於沈積厚度從2納米到8微米的層。PECVD工藝在各種幾何形狀上提供了卓越的步長覆蓋,同時保持了較低的熱載荷。APPLIED MATERIALS Centura DxZ反應堆配備了高達2.5兆瓦的源功率，允許較高的沈積速率。等離子體密度是可調的，允許不同氣體組合的最佳摻入。它還具有兩個獨立的氣體進料，允許對溫度、壓力和摻雜等離子體參數進行獨立控制。Centura DxZ反應堆的運行壓力範圍在0.01毫巴至4毫巴之間，允許包括蝕刻和沈積在內的多種工藝。溫度範圍可在200至900攝氏度之間調節，允許不同的工藝配方。反應堆還可以配置為穩定和可重復的過程控制，提供一次又一次的一致結果。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DxZ設計用於安全可靠的操作。它配備了幾個安全系統，如車載清洗系統和溫度感測。這樣就能夠安全運作，並防止由於殘留氣體的存在而造成的潛在汙染。總體而言，AMAT Centura DxZ反應堆是一種先進的工具，用於為不同的應用沈積各種先進材料。其寬廣的工作溫度和壓力範圍，結合高功率和穩定、可重復的工藝控制，使其成為靈活可靠的沈積解決方案。
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