二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DxZ #9174380 待售

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ID: 9174380
晶圓大小: 8"
優質的: 1996
CVD Nitride system, 8" Process: DCVD Wafer specification: Wafer shape: Notch SMIF Interface: None System information: Chamber A Chamber B Chamber D Chamber E (MS COOL) Chamber type: Chamber A: DxZ Chamber B: DxZ Chamber C: DxZ Chamber A: Manometer: 100/2 Heater: AL Clean method: AE 2000-2V Pressure method: Direct drive throttle valve Chamber B: Manometer: 100/2 Heater: AL Clean method: AE 2000-2V Pressure method: Direct drive throttle valve Chamber D: Manometer: 100/2 Heater: AL Clean method: AE 2000-2V Pressure method: Direct drive throttle valve System monitor: Monitor 1: Through the wall Monitor 2: Stand alone Mainframe information: Loadlock: Narrow body Robot type: HP OTF: Yes Gas delivery option: MFC Type: Unit MFCs Filters: Millipore Regulators: Veriflo Single line drop (SLD): Yes System cabinet exhaust: Top Gas pallet configuration: Chamber A Size Model SiH4 500sccm Stec MFCs NH3 200sccm Unit MFCs NF3 1 Slm Unit MFCs N2O 500sccm Unit MFCs N2 5 Slm Unit MFCs Chamber B Size Model SiH4 500sccm Stec MFCs NH3 200sccm Unit MFCs NF3 2 slm Unit MFCs N2O 500sccm Unit MFCs N2 5 Slm Unit MFCs Chamber D Size Model SiH4 500sccm Stec MFCs NH3 200sccm Unit MFCs NF3 1 Slm Unit MFCs N2O 500sccm Unit MFCs N2 5 Slm Unit MFCs 1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DxZ是一種高度專業化的高溫反應堆,專為復合半導體器件的先進制造而設計。這種全自動的CVD設備同時在單個腔室中處理晶片,能夠處理多達200個晶片的生產運行量。反應堆提供了一系列爐溫,以便在規劃和管理均勻沈積過程方面具有更大的靈活性。從基板的邊緣到邊緣以及從上到下的表面,其非凡的溫度均勻性可提高設備制造的一致性。該系統配備了一系列先進的特性和功能,包括石英晶體微平衡(QCM)監視器、石英反射監視器、O環密封設計、氣體處理特性和晶圓載體單元。QCM監測器提供實時沈積和生長速率信息,而石英反射率監測器有助於確保沈積過程中薄膜厚度的均勻性。O形圈密封有助於將必要的氣體引入反應室的高效和受控的過程,而氣體處理特性則使反應堆保持理想的氣體濃度比。最後,集成晶片載波機確保晶片在沈積過程中保持不動。強大的AMAT Centura DxZ等離子體工具為各種應用提供五個PVT替代模塊,包括熱氧化、幹蝕刻和等離子體增強沈積。其先進的高級手套箱氣體混合能力能夠精確控制輸送的氣體,包括其流量和濃度水平。憑借其高壓運行、無與倫比的溫度均勻性以及處理範圍廣泛的晶圓尺寸的能力,該資產是生產各種先進半導體器件的理想之選。APPLIED MATERIALS Centura DxZ非常適合復合半導體器件制造的苛刻需求,具有最先進的硬件工程、可靠的設計和一系列高級工藝選項。這個世界級的反應堆能夠可靠地、始終如一地生產優質的復合半導體器件,同時為制造商和開發商節省時間和資源。
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