二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DxZ #9177323 待售
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ID: 9177323
晶圓大小: 8"
Chamber, 8"
Wafer shape: SNNF (Semi Notch No Flat)
System configuration:
Chamber B:
Heater: AL
Clean method: RF
Frequency: Dual HF + LF
Manometer: Single 100 torr
Gas delivery:
MFC Type: STEC 4400MC
Valves: FUJIKIN 5 Ra Max
Filters: Millipore
Transducers: MKS with display
Regulators: Veriflo
Single line drop (SLD): No
Liquid delivery type: EPLIS
Injection valve: Yes
LFM TEOS: Yes
Chamber B Model Size
NF3 STEC 4400 300 sccm
C2F6 STEC 4400 2 SLM
O2 SETC 4400 3 SLM
N2 STEC 4400 1 SLM
HE STEC 4400 3 SLM
LFM LF-410A 1.5 g/m
(2) Generators:
HF Generator
LF Generator
Umbilicals:
Signal cable length (S/C ~ MF): 25Ft
RF Gen coax cable length: 50Ft
Pump cable: 50Ft.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DxZ是一種設計用於薄膜沈積的多功能反應器。它利用物理氣相沈積來沈積高質量的薄膜，使其成為半導體/光電制造以及其他應用的理想選擇。反應堆設有一個大的加工室，以容納各種形狀和大小的底物。它還使用多區加熱設備，允許在沈積過程中精確控制熱能。該反應器的設計是為了提高均勻性，允許薄膜被應用與證明均勻性跨越晶圓。高性能設計還有助於最大限度地減少顆粒的攝入，采用優化的氣體流動系統，以確保顆粒在從過程中出現時被氣流和其他氣體卷走。Centura還具有許多獨特的功能,可幫助在薄膜沈積過程中最小化敏感性並確保準確性。其高精度氣體閥設計用於精確調節氣體流動，而其高精度工藝監測系統則提供工藝響應和性能數據。此外,該設備還配備了高級診斷和高級流程控制器功能,使操作員能夠根據需要修改流程以保持目標狀態。AMAT Centura DxZ的設計也允許對廣泛的化學反應進行監測，從而使沈積過程能夠緊密定向和優化以獲得最佳結果。它還具有許多安全功能，如惰性氣體儲物櫃和防止過度處理的倒計時計時器。總體而言，APPLIED MATERIALS Centura DxZ是一種先進的薄膜沈積機，提供可靠且可重復的薄膜沈積。它設計多種多樣,可提供精確、均勻的塗層,並特別註重可靠性、安全性和可重復性。通過結合先進的特性和工藝,Centura可確保薄膜的應用精確度和高產率。
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