二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DxZ #9184346 待售

看起來這件物品已經賣了。檢查下面的類似產品或與我們聯系,我們經驗豐富的團隊將為您找到它。

圖為 已使用的 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DxZ 待售
Loading
已售出
反應爐
製造商
AMAT / APPLIED MATERIALS
模型
Centura DxZ
ID: 9184346
晶圓大小: 8"
優質的: 1997
CVD System, 8" Mainframe information: Phase 2 Robot type: HP LoadLock type: NBLL SMIF: X Process chambers: Chamber A Chamber B Chamber C Chamber D Cooldown chamber: Chamber E: MSCD Orient chamber: Chamber F: X (4) Process chambers Process: CVD Application: DXZ System controller: UPS Generator: Chamber A: RFG 2000-2V Chamber B: RFG 2000-2V Chamber C: RFG 2000-2V Chamber D: RFG 2000-2V Bottom module: Chamber A: 0090-01805 Chamber B: 0090-01805 Chamber C: 0090-01805 Chamber D: 0090-01805 Heater lift: Chamber A: 0010-38426 Chamber B: 0010-38426 Chamber C: 0010-38426 Chamber D: 0010-38426 Baratron: Model Torr Chamber A 626A11TBE 10Torr Chamber B 626A11TBE 10Torr Chamber C 626A11TBE 10Torr Chamber D 626A11TBE 10Torr Baratron: Model Torr Chamber A 122BA-00100EBS 100Torr Chamber B 122BA-00100EBS 100Torr Chamber C 122BA-00100EBS 100Torr Chamber D 122BA-00100EBS 100Torr Gas control : SERIFLEX TYPE Gas panel: Chamber A: LINE1 SiH4 500sccm UNE2 NH3 500sccm LINE3 N2 5SLM LINE4 SiH4 200sccm LINE7 H2 5SLM LINE8 N20 1SLM LINE9 CF4 3 SIM SIDE N20 500sccm Chamber B: LINE1 X LINE2 NH3 500sccm LINE3 N2 5SLM LINE4 SiH4 200sccm LINE7 H2 7SLM LINE8 N20 1SLM LINE9 CF4 3 SLM SIDE N20 500sccm Chamber C: LINE1 X LINE2 NH3 500sccm LINE3 N2 5SLM LINE4 SiH4 300sccm LINE7 H2 7SLM LINE8 N20 1SLM LINE9 CF4 3SLM SIDE N20 500sccm Chamber D: LINE1 N20 3SLM LINE2 NH3 500sccm LINE3 N2 5SLM LINE4 SiH4 300sccm LINE7 H2 7SLM LINE8 N20 1SLM LINE9 CF4 3 SIM SIDE N20 500sccm Packing list: Mainframe AC Remote rack Generator rack (2) Part boxes Power: 208VAC 1997 vintage.
閱讀更多 關閉
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DxZ是一種經過適當設計和工程設計的反應堆，具有先進的材料工程和工藝能力。該反應堆可用於沈積、蝕刻和熱退火等多種工藝，並經過專門設計，以滿足各種應用的要求。AMAT Centura DxZ反應堆具有高效穩定的設計，能夠實現高工藝吞吐量和可重復性。這是通過高穩定性和精確度、高質量和耐用組件以及根據客戶需求量身定制的堅固、靈活的腔室設計相結合而實現的。這使得APPLIED MATERIALS Centura DxZ反應堆成為許多行業在需要高工藝結果時的首選。Centura DxZ反應堆裝有先進的真空室，可用於高速率工藝的高重復性和低溫烘烤。該腔室可配置用於各種特定用途，從塗層和掩蔽到蝕刻或沈積。這種種類繁多的工藝允許更廣泛的底物成分和溫度，並使反應堆能夠用於多種應用，從而消除了對多個反應堆的需求。AMAT/APPLICED MATERIALS Centura DxZ還附帶了與反應堆配合工作的自動化自適應控制系統，以確保最大精度、重復性和吞吐量，同時減少用戶幹預。該系統還有助於減少報廢和縮短周期時間,同時提供診斷和過程控制工具,實現遠程性能優化和周期時間優化。晶片在AMAT Centura DxZ上的定位也很容易，這要歸功於自動定心和夾緊機構，它可以在沒有人工輔助的情況下進行精確的放置和對準。此外，反應堆還配備了溫度均勻性傳感器，在過程中提供實時溫度控制，確保整個過程中溫度均勻。總體而言,APPLIED MATERIALS Centura DxZ反應堆的設計具有靈活性和可靠性,能夠滿足各種應用程序要求苛刻的工藝要求。反應堆是精確控制、高效和耐用的，有助於顯著減少循環時間和增加產量，同時減少對多反應堆和人工幹預的需求。
閱讀更多 關閉
還沒有評論