二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DxZ #9193775 待售
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ID: 9193775
DCVD System
Voltage: 208 VAC
Phase: 30’’
(4) Wires
Full-load current: 240A
Frequency: 60Hz
Maximum system rating: 87KVA
Ampere rating of largest load: 140A
Interrupting current: 10,000
Chamber A: TEOS, He, O2, N2, NF3, Ar
Chamber B: a-Si, SiO, SiON, SIN (SiH4, N2O, H2, He, N2, NH3, NF3, Ar)
Chamber C: a-Si, SiO, SiN (SiH4, N2O, H2, He, N2, NH3, PH3/H2, NF3, Ar)
Chamber D: SiO, SiON (SiH4, N2O, H2, He, N2, NH3, NF3, Ar).
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DxZ Reactor設計用於高級材料的高性能過程化學和物理氣相沈積(PVD)。DxZ是一種全自動的高精度工藝工具,專為快速可靠地生產先進的薄膜結構而設計。它具有高度的正常運行時間,符合最苛刻的環境、操作和工藝條件。DxZ反應堆配備了先進的MFC質量流控制器,能夠精確的過程控制,並具有獨特的「逐區」控制設備。這一特性有助於控制反應物氣體濃度在反應堆體積中的擴散,降低過程漂移的風險。此外,DxZ有一個大容量的多區氣體系統,有助於提高過程的重復性和降低漂移的風險。工藝包覆等離子體源(PCPS)以高效率和過程均勻性向加工室提供均勻的ICP(感應耦合等離子體)輸入。PCPS使用智能電源運行,以確保脈沖峰值穩定性和平滑的等離子體輪廓,從而優化過程穩定性和可重復性。DxZ反應堆專為在潔凈室環境中強健運行而設計,並配備了最新的符合潔凈室要求的自動化和軟件。全自動負載鎖裝置是為最小的過程中斷而設計的,並配有燈照明的內部,以減少汙染。DxZ具有高級加載歷史記錄功能,可以跟蹤和記錄準確的過程信息,從而實現可靠的可追蹤性和過程歷史記錄。一個專門的環境控制機為可靠、可重復和均勻的層沈積提供了一個符合清潔室要求的氣氛。AMAT Centura DxZ具有廣泛的先進工藝能力,包括晶圓鍵、單向濺射沈積、合金沈積、ALD(原子層沈積)、IPVD(內等離子體氣相沈積)。該工具能夠處理各種特殊材料,非常適合制造復雜的高性能設備。此外,DxZ具有靈活的操作模式,允許用戶自定義其流程參數以獲得最佳性能結果。APPLIED MATERIALS Centura DxZ Reactor設計用於對多種先進材料進行高性能、高效的處理。它配備了全面的安全和過程控制工具,以確保可靠的過程性能。DxZ是處理高度專業化材料的強大工具,是高級制造應用程序的理想選擇。
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