二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura eMax #9239957 待售

AMAT/APPLICED MATERIALS Centura eMax是一個先進的模塊化反應器，為在極紫外線（EUV）頻率下便利先進可靠的半導體處理而開發。與其他生產反應堆不同的是，AMAT Centura eMax具有兩個完全獨立的腔室，具有獨立的源，以兩倍的功率提供低成本的工藝優化方法。雙6 kW光源非常適合需要兩倍吞吐量同時保持高精度的制造工藝,如光刻剝離、沈積和蝕刻。APPLIED MATERIALS Centura eMax具有專有的防反射塗層,可提供精確的陣列和特征控制,從而可以更好地控制設計過程。該反應堆還配備了一個可調壓力系統，可提供精確處理，以便對易碎材料進行具有成本效益的蝕刻。Centura eMax具有減少納米短褲的能力，在先進的EUV光刻技術中被用於鰭高優化。該系統的小巧尺寸提供了有效的空間利用,允許在緊湊的制造位置進行安裝。作為使用EUV的生產工藝的最佳工具，它擁有快速的掃描速率和高能光束，能夠在難以蝕刻的層上進行精密蝕刻。最大掃描速率為每分鐘500平方厘米,通過縮短周期時間,可以快速調整過程並提高吞吐量。一種先進的過程控制器與人機界面協同工作，可快速調整參數，方便地設置和控制反應堆。用戶友好的界面可以提高控制過程參數（如蝕刻速率、沈積速率和薄膜輪廓等）的準確性。該系統對批量EUV處理特別有效，提供了可重復性和可靠、高產的生產運行。AMAT/APPLICED MATERIALS Centura eMax結合了EUV性能、先進的過程控制功能和較小的占地面積,是一個開創性的生產反應堆解決方案,可用於要求苛刻的半導體過程。創新的設計為大批量制造和性能優化提供了速度、靈活性和精度。