二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura eMxP+ #9248728 待售

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ID: 9248728
晶圓大小: 8"
優質的: 1998
Oxide etcher, 8" NBLL, 8" (3) Chambers Load locks: Narrow body Frame: Centura 5200 (3) Process chambers: Chamber A: Hybrid, eMxP+ Chamber B: Hybrid, eMxP+ Chamber C: Hybrid, eMxP+ Chamber F: Orientor Robots: VHP+ Chuck type: ESC Signal tower (front): Green, yellow, red System control and AC rack Smoke detector Remote UPS interface Generator rack Water leak detector (3) BOC EDWARDS STP-301CB1 Pumps Hard Disk Drive (HDD) Line frequency and voltage: 50/60 Hz, 208 V, 3-Phase 1998 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura eMxP+反應堆是半導體制造過程中使用的關鍵工具。它是一種等離子體增強化學氣相沈積(PECVD)設備,為蝕刻和氧硝化物應用提供高沈積速率和優異的均勻性。EMxP+具有400毫米直徑的加工室,允許比常規反應堆更大的底物和更高的通量。其獨特的腔室/桿設計有助於對沈積環境和過程進行精確控制。EMxP+還使用了先進的四級RF功率組合器,允許在任意組合中使用最多三種工藝氣體。這樣可以更好地控制和處理沈積。eMxP+還利用最新的射頻發電機技術在所有應用中實現更高的功率傳遞和最高溫度均勻性。eMxP+的設計具有均勻性和可重復性。它具有獨立的靜態晶片加熱系統,以確保均勻的預處理溫度,最大限度地減少來自基板支架的顆粒汙染的可能性。基板冷卻裝置有助於最大限度地減少工藝變化並保持一致的結果。eMxP+還配備了溫度和沈積剖面反饋的控制機器,用於最大均勻度的精確溫度和沈積控制。eMxP+提供了最高級別的流程靈活性。憑借獨特的雙光管設計,eMxP+能夠進行盡可能最快的坡道下降和坡道上升,使用戶能夠滿足工藝要求。由於腔室的設計,其高沈積通量和均勻性非常適合高生產率的應用。AMAT Centura eMxP+除了功能外,還內置了安全環保功能。它在工具的內部和外部部件上的散熱器和屏蔽有助於減少進入房間的熱量傳遞,並提供更安全的工作環境。其符合簡易爆炸裝置的冷卻資產最大程度地減少了浪費氣體的消耗,同時也降低了樣品汙染的可能性。APPLIED MATERIALS Centura eMxP+是一個功能強大而高效的反應堆,專為高生產力的半導體制造應用而設計。eMxP+在任意組合中運行多達三種工藝氣體,並具有400毫米直徑的加工室,可提供最高水平的沈積均勻性和可重復性。利用先進的加熱和冷卻系統,提供最高溫度均勻性和工藝靈活性。它還內置了安全和環境保護,以建立一個更安全的工作環境。
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