二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Epi #293621413 待售

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ID: 293621413
晶圓大小: 6"-8"
優質的: 2004
System, 6"-8" (3) ATM Epi Chambers Flow point: Nano valve Gas panel M-Monitor: CRT SIEMENS PLC with Digital flow control with interlock and passphrase CB1 Amps: 300 A HDD upgraded to RAID V452 SBC Board Serial isolator (2) Leak detect / System reset OTF / Centre find Chamber A, B, C: Interlock M/F Interlock Loadlock Interlock Chamber A, B, C DI / O1 DI / O2 Chamber D: DI / O2 Chamber E: DI / O0 SBC Video I/O Expansion SEI Chamber A, B, C, D: AIO Mainframe AI01 CH E / MF AI02 Mainframe: DI01, DI02, DI03, DI04, DI05, DI06 Mainframe Stepper 1 Robot and indexer stepper: VX2 2004 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Epi是專門設計用於生產半導體器件的反應堆。該反應器能夠進行氣相沈積和外延處理,這是沈積薄膜和制造集成電路等多層器件的主要方法。以其高通量、高溫、高均勻性,AMAT Centura Epi反應堆是發展先進半導體技術最強大的工具之一。應用材料CenturaEpi反應堆是利用先進的工藝技術和集成的硬件和軟件環境開發的一種堅固可靠的設備。它配備了高精度的機芯、先進的散熱和電氣控制,以及功能強大但易於使用的基於軟件的界面。Centura Epi反應堆的主要部件包括一個發射電子的基板支架、用於產品控制和清潔生產的擋板和氣體註入系統、氣體篩分場效應裝置和控制單元、直流蒸發源以及電磁和表面波發生器。基板支架裝有一系列電子設備,使其能夠保持均勻的溫度分布。這有助於最小化熱波動並提供薄膜和外延層的均勻生長。擋板和氣體噴射機支持產品控制功能,允許用戶在預定參數內精確控制和維護環境。氣篩場效應裝置能夠高效控制產品,通過防止外來或有害材料進入來減少氣體汙染。直流電蒸發源可提供任何來源的高度均勻、高速率的材料蒸發,從而確保更高質量的生長和沈積。最後,電磁和表面波發生器提供了與最廣泛的循環和靜態元件的兼容性,進一步保護輸出免受傷害或損壞。總之,AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Epi工具是一種先進、高效、可靠的反應堆,為集成電路等半導體器件的生產提供了高通量、均勻的生長環境。它采用集成的硬件和軟件環境進行設計,並包含一系列高級功能,使用戶能夠準確控制環境並產生高質量的結果。
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