二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Epi #9137479 待售

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圖為 已使用的 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Epi 待售
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已售出
反應爐
製造商
AMAT / APPLIED MATERIALS
模型
Centura Epi
ID: 9137479
晶圓大小: 8"
優質的: 1995
CVD Reactors, 8" Chamber type: Position A : HTF Nitride Position B : HTF Nitride Position F : (CA) Single slot cooldown Electrical requirements Line voltage : 480V With transformer Line frequency : 60 HZ Line amperage : 600A System safety:  EMO Switch type : Momentary EMO EMO Guard ring HTF NITRIDE EPI RP Pressure chamber Thickness control options : BMV Third manometer : 200 TORR Leak check port RGA Port and valve HTF NITRIDE EPI : RP Pressure Chamber Selected Option Thickness Control Options BMV  Third Manometer 200 TORR Gas Line Isolation Leak check port RGA Port and Valve Gas Delivery Options:   Epi Gas Delivery Options: Gas Panel Type Surface Mount Gas Panel Gas Panel Exhaust CHAMBER B SIDE MFC : AREA,UNIT,STEC,ETC Filter Milipore Pump Purge CH A Gas Options   CH A ATM Pressure      CH A H2      CH A N2      CH A SIH4      CH A SIH4      CH A H2      CH A NF3 CH B Gas Options:  CH B ATM Pressure      CH A H2      CH A N2      CH A SIH4      CH A SIH4      CH A H2      CH A NF3 Mainframe  Loadlock      Loadlock Type : Wide body      Cassette Platform Type : Universal  Common Chamber Options :      Variable Speed Blower      SWmonitor Quartz Pyrometer Kit 2      Lamps Type USHIO BNA6      Susceptors STANDARD NCP      Brands XYCARB      Lift Pin Type HOLLOW SILICON CARBIDE      Susceptor Support Shaft NCP SUSCEPTOR SUPPORT SHAFT      Tips SILICON CARBIDE REMOVABLE TIPS      Exhaust Inserts Quartz  Transfer Chamber Wafer Sensing : OTF Transfer chamber Lid Hoist : Robot :HP ENP Transfer Chamber Purge 15 SLM  Diagnostics and Control :  SecsTrac Remotes :  System controller :  Controller Plexiglass Cover  Flash Memory Drive : SCSI Vacuum pumps :  Loadlock chamber pump : Edwards QDP40  Process chamber pump : Edwards QDP80  System Monitors:  Monitor Type : CRT (1) Monitor Wall (1) Table mount Cable Lengths (Effective) :      Controller to Mainframe : 23 ft Controller to Pump : 48 ft Controller To TTW Monitor : 50 ft Controller to table Mount Monitor : 24 ft 1995 vintage.
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AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Epi是一種用於外延層沈積的前沿多區域設備。這座反應堆采用了高效的設計，得益於其高度優化的噴射器、甚至加熱區以及低溫性能系數。AMAT Centura Epi采用先進的多區域噴射器，通過擴散控制工藝幫助確保厚層的均勻性。這款噴射器吞吐量高，性能系數低，操作效率高。反應堆有加熱帶，具有先進的熱處理，有助於提供均勻均勻的基板加熱。這允許熱層的均勻性，這有助於在沈積過程中保持外延層的最高產率。APPLIED MATERIALS Centura Epi采用真空泵和氣體鼓風機系統,設計得非常可靠。這些系統有助於控制真空壓力，並提供穩定的氣體流動。這確保了沈積過程的穩定和一致的環境。該單元還包括幾個監控系統，如流量、壓力和溫度控制。這些系統有助於保持工藝參數的一致性，確保外延層的高質量和可靠沈積。Centura Epi包括一個用於自動數據收集的數字接口,可幫助捕獲和分析沈積過程中的數據。這些數據可以用來調整機器的參數，幫助優化沈積過程的結果。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Epi是一種高性能的工具,旨在實現均勻外延層的沈積。這座反應堆具有高效的設計，得益於它的多區噴射器，甚至加熱區，以及低溫系數的性能。此外，它還具有一系列監測和控制系統，有助於確保沈積過程的統一性、可靠性和質量。
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