二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Epi #9153770 待售

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ID: 9153770
晶圓大小: 8"
Reactor, 8" WBLL HP Robot (2) EPI chambers (1) Cool Down chamber (4) Dry pumps (1) Transformer System controller rack.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Epi是一種先進的等離子體增強化學氣相沈積(PECVD)反應器,用於半導體器件制造。該工具旨在制造高產量的高性能設備,使客戶具備實施高級光刻策略的多功能性和能力。AMAT Centura Epi爐具有雙基板工藝室,允許在不同溫度下同時處理基板,以及兩個獨立的epi室,每個室都有自己的工藝氣體、溫度、功率和壓力控制。這種雙腔室設計為用戶提供了更高的吞吐量以及廣泛的基板和工藝選項,腔室完全降壓,以在整個加工周期中保持氣體和溫度的均勻性。該工具提供了模塊化、緊湊的設計,並提供了與其他流程模塊的靈活集成,使用戶能夠對流程進行最高程度的控制,從晶圓級到刀具級。該腔室的設計旨在提高效率,並在各種溫度和工藝參數上提供一致的沈積,為用戶提供可重復和可靠的單室和多腔室工藝配方。該配置也具有高度的多功能性,可輕松配置,以提供各種薄膜沈積功能,如設備層級層、晶圓層級層、訂閱設備(DOS)基板傳輸和epi傳輸層。商會還為客戶提供實施回流和晶圓稀釋等特殊工藝的機會。APPLIED MATERIALS Centura Epi還具有許多其他功能,使用戶能夠實現所需的工藝參數,包括石英散熱器、氮氣清除和屏蔽功能。它還具有獨特的等離子體驅動裝置,保證了層厚度和器件特性的均勻性。該工具與一系列材料兼容,包括矽、SiO2、SiN、氮化物和氮化矽,其設計允許高工作溫度範圍和優越的沈積均勻性,提高器件產率和可靠性。Centura Epi的多功能設計還提供了實施高級流程戰略所需的靈活性,並有助於及時引入新的設備設計。
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