二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Epi #9155788 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Epi是一種最先進的外延反應器，設計用於優越的晶圓-晶圓一致性和優越的均勻性。它是復合半導體器件和材料制造中應用最廣泛的外延反應器之一。AMAT Centura Epi反應堆設計為高度可靠，在廣泛的溫度和工藝條件下生產均勻一致的外延膜。APPLIED MATERIALS Centura Epi反應堆設備的主要部件包括一個底物晶片、一個epi室和相關的工藝室，在那裏進行完整的外延過程。基片晶片在加熱的真空環境中懸浮並加熱在epi腔內。該工藝室利用多個淋浴頭和一個爐提供均勻的氣體和氣體混合，然後逐步積聚所需的材料組合，在基片上形成外延層。CenturaEpi工藝能夠在廣泛的條件下精確控制晶圓溫度和外延生長速率（EBR）,從而確保膜的均勻性和外延膜的最高質量。此外,AMAT/APPLICED MATERIALS Centura Epi反應堆系統提供了卓越的晶圓-晶圓一致性,並通過先進的溫度控制、準確的氣體混合和產品的可追蹤性進行了保護。為了使設備工作最佳,AMAT Centura Epi反應堆采用了一套先進的光學器件,即烤箱、紅外成像機和CCD成像工具。烤箱設有高溫石英晶窗，可直接觀察外延生長過程。紅外成像資產允許對基板溫度進行精確監測，而CCD成像模型則用於記錄主動外延生長過程。APPLIED MATERIALS Centura Epi室的溫度可以通過一組可編程的溫度設定點進行遠程或手動監控。通過添加加熱元件進一步提高設備的溫度穩定性，即使在生長條件迅速變化（例如溫度突然升高）的情況下，加熱元件也能保持epi室的溫度。總體而言，CenturaEpi反應堆是一種用途廣泛且高度可靠的外延系統，能夠生產出質量優良的外延膜，具有優異的均勻性和晶片對晶片的一致性。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Epi反應堆憑借其先進的光學、溫度控制和工藝靈活性，被廣泛接受為高性能外延膜的行業標準。