二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Epi #9393367 待售
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ID: 9393367
晶圓大小: 8"
優質的: 1998
Reactor, 8"
Type: Silicon cluster plasma
(3) Chambers
External step down transformer
Flash memory drive
VSB Blowers
Accusette controller
Heat exchanger: Grade 1
Mainframe:
Wide body LL
ENP
Upper frame assembly
HP Robot
Transfer chamber
Power supply: 208 VAC, CB 300A
1998 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Epi是一種獨立的分子束外延(MBE)反應器,用於研究和生產沈積和薄膜生長應用,如光伏和半導體行業的應用。AMAT Centura Epi設計為用戶友好、機械和化學穩定、節能。它的模塊化設計允許在三個不同的腔室中濺射,而MBE則在第四個腔室中實現。整個設備被裝在一個緊湊的氣密緊湊的框架中,腔室的墻壁被塗上了D2O,以減輕膜的汙染。該系統建立在1.0E-9 Torr的真空水平上,而其超高真空(UHV)水平提供高達20埃/秒的沈積過程速率,均勻度高達20%。該裝置的裝載能力可以處理直徑最大為12英寸的樣品,並且對於直徑最大為3英寸的基板可以進一步調節。APPLIED MATERIALS Centura Epi的多通道源控制允許同時對多達四個元素進行陣列化沈積,從而在基板表面上創建外延結構。這款工具還采用了帶有電子控制電源和獨立工藝室的氣門間切換機,創造出定制的薄膜增長。該工具在直流和射頻電源上運行,允許單層和多層薄膜的增長。增長率可以通過源控制的自動啟動模式和實時參數顯示控制來控制,以確保均勻的沈積操作。射頻源配有阻抗匹配資產和內置衰減器連接直流流量放大器模型。Centura Epi還配備了冷卻設備,以消散高達300攝氏度的溫度。這個溫度也可以用系統的內置熱電偶控制器實時監控。內置扶手、腳凳和符合人體工程學的旋鈕為用戶提供舒適的工作體驗。它確實是任何人在電影增長應用中尋求最終過程控制的正確工具。
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