二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura HDP #9163132 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura HDP設備是一種用於蝕刻沈積的高密度等離子體（HDP）反應器。HDP反應堆采用基於氣體的工藝，在晶圓表面上創造出富含等離子體的環境，以產生亞微米結構。該系統由工藝室、室壁、工藝樣品、射頻發生器、射頻匹配網絡、射頻功率放大器、濕度控制單元組成。HDP反應堆的設計是基於公認的共焦圓柱幾何概念。該工藝室由一系列嵌套的圓柱線圈組成，在工藝室內產生強大的磁場。這樣可以更好地控制等離子體，因為等離子體的電子和離子密度可以在整個腔室中被操縱。HDP單元利用兩個射頻源生成等離子體：射頻發生器和射頻匹配網絡。射頻發生器為等離子體提供初始高頻功率，射頻匹配網絡確保功率在傳遞時與腔壁有效匹配。這有助於在基板上實現均勻的沈積和蝕刻。射頻匹配網絡也可以監控和操縱工藝室內部的溫度，以確保過程一致。HDP機的腔壁由石英、氮化鋁等介電材料制成，以最大化等離子體與腔壁之間的電絕緣。這提供了更好的控制等離子體和最終導致更均勻的沈積和蝕刻在基板表面上。腔室壁還配有外圍加熱工具，用於控制加工腔室的溫度並確保等離子體的一致性。HDP資產還具有一個濕度控制單元,該單元有助於在工藝室內保持一致的相對濕度（RH）水平。過程中，腔內的RH必須保持相對穩定，以幫助防止血漿不穩定的形成。總體而言，AMAT Centura HDP是一種可靠高效的等離子體處理模型。設備的嵌套圓柱形線圈、射頻發生器、射頻匹配網絡和外圍加熱系統有助於確保基板上的沈積和蝕刻均勻，而濕度控制單元則有助於保持腔內穩定的RH水平。這有助於在加工後的基板上提供一致的結果和統一的結構結構，使HDP單元成為亞微米蝕刻和沈積的理想選擇。