二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura HP PVD #9266126 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura HP PVD（物理氣相沈積）反應器是一種最先進的反應器，旨在將金屬、合金和化合物的全覆蓋膜精確地沈積在半導體晶片上。該反應堆采用集成脈沖直流電源，提供通量控制，提高均勻性，減少因高能自由基造成的損傷。AMAT Centura HP PVD反應器可以將金屬、矽化物、電介質和其他材料沈積到晶圓表面上，給它們額外的防腐蝕和其他損壞的保護。它還設計了附加的安全功能，如機械臂、快門、屏蔽氣體供應系統、具有監控能力的壓力傳感器以及緊急關閉閥。反應堆由三個主要子系統組成：工藝室、偏置發生器和噴頭。工藝室是塗有透熱熱解石墨或W-C的石英室，可加熱至1000 °C，此室裝載多達400個晶圓，可容納多種靶材。偏置發生器用於通過改變目標的偏置電壓來控制等離子體。該發生器可在每個批次的所有晶片上實現均勻的薄膜沈積，以及精確的層厚度控制。Showerhead可用於註入前體氣體或離子束的淋浴，使金屬、合金和化合物以受控速率沈積。應用材料Centura HP PVD反應器是在基材上沈積多種薄膜的高效工具。其耐熱室和精確控制的直流源使薄膜的沈積速度比傳統聚氯乙烯反應堆高得多，提高了生產率和吞吐量。該系統的晶圓兼容性通過其高度通用的Showerhead得到進一步擴展,其現場過程控制和自動緊急關閉閥使操作更加安全高效。Centura HP PVD Reactor是沈積均勻全覆蓋薄膜的可靠高效工具，是任何半導體制造設施的絕佳選擇。