二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura HP PVD #9276863 待售

AMAT/AMAT/APPLIED MATERIALS Centura HP PVD反應器是一種化學氣相沈積（CVD）設備，專門設計用於提供各種材料的均勻、高性能層沈積。它能夠在一次操作或多層中沈積多種金屬，包括鋁、鎢、鈦、銅和其他合金。該系統采用了一種創新的高性能Crucible輔助CVD （IHPCVD）技術,在比傳統PVD系統快三倍的沈積速率下提供了更好的層均勻性和均勻性。AMAT Centura HP PVD可沈積各種材料成分，厚度可達6mm層，保形性好。該裝置極其可靠，熱循環時間快，周轉速度快。它可以很容易地集成到多室機中，以提供高效的吞吐量。APPLIED MATERIALS Centura HP PVD的CVD工藝由註氣加熱計算機控制的過濾工具提供動力。這一資產能夠在沈積室內建立一個精確定義的工藝氣氛，同時確保反應物氣體的一致輸送和對化學反應的準確控制。反應物氣體通過位於反應堆中心的過濾氣體入口歧管引入。這保證了工藝室內氣體的均勻分布，也允許模型實時調整反應物組成，以確保最優分布和沈積。專有的多區工藝室設計提供了額外的均勻性，並控制了整個基板表面的層厚度和組成。這個腔室利用加熱的墻壁來確保整個基板區域的沈積具有廣泛的均勻性，同時也提供了「傾斜」基板以達到不同層厚度的靈活性。此外,先進的層控制設備可確保工藝精度和最大導電率。爐子配有一個氮氣進氣室，在整個爐子內部提供均勻的氮氣流動，使系統能夠在高溫高壓下運行，而不會損害爐子的安全性或完整性。Centura HP PVD能夠以無與倫比的精度和高寬高比沈積各種材料組成、厚度、幾何形狀和特征。該裝置具有快速的熱循環時間和高達2.2升的批量生產能力，非常適合大批量生產。最後，機器的堅固性使得它能夠在腐蝕性和高溫環境下操作。所有這些功能使APPLIED MATERIALS/AMAT/APPLED MATERIALS Centura HP PVD成為可靠且高性能的沈積工具,能夠為各種應用提供均勻且可重復的塗層。