二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura HTF #9260258 待售

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ID: 9260258
優質的: 2006
Epitaxial cluster system (3) Chambers atmospheric: Standard EPI Logitex wafer handling control Cooling circuit with digital flow-meters Door Interlocks PC Controller Temperature control: Dual pyrometer Process gases: TCS, PH3, Porr External cooling: Water cooled CE Marked Power requirements: 480 V, 240.0 Amp, 50 Hz, 3 Phase 2006 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura HTF(高溫爐)是一種真空外熱處理反應器,用於半導體晶片和集成電路的製造和製造過程。該爐設計為在500至1200攝氏度的溫度下運行,能夠進行先進的熱處理應用,如氧化、氮化、快速熱處理(RTP)退火、熱擴散和其他高溫過程。AMAT Centura HTF由四區水平安裝的爐膛組成,由開槽的特氟龍或高溫合金材料構成。該腔室由水冷、RF驅動的不對稱感應線圈加熱,可以分別或組合在碎屑表面附近安裝氣體噴嘴,用於引入惰性或反應性過程氣體(如氮氣和氧氣)。利用先進工藝控制器可以精確監測和調節爐膛的溫度,該控制器還支持專門的基板支撐技術。控制器直接連接到Centura硬件,使工藝工程師能夠調整和控制各種參數,包括溫度、停留時間和氣體流速,以達到預期的效果。APPLIED MATERIALS CENTURA HTF的設計考慮了安全性,提供了有效的安全和環境保護。該室配有爆炸控制系統,符合OSHA和NFPA標準,而冷卻系統則適當地防範突如其來的過程轉移。另外還有一些安全措施,如緊急關閉開關和接地故障電路中斷器。AMAT CENTURA HTF是一種經濟高效的解決方案,可滿足熱處理需求,提供卓越的質量、可重復性和可重復性,同時實現所需的結果。因此,它已成為半導體芯片和集成電路制造的重要組成部分。
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