二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura I #9093472 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura I Reactor是一種高溫化學氣相沈積（CVD）半導體處理設備。它是為介電膜和導電膜在晶圓基板上的沈積而設計的。AMAT Centura I反應堆是一個熱隔離盒式系統，設計成一個高效可靠的半導體制造平臺。APPLIED MATERIALS Centura I配有水平腔室和垂直閥歧管，兩者均裝在不銹鋼外殼中。該裝置利用高溫工藝氣體流動，能夠達到300毫巴的運行壓力。此外，該腔室還塗有一層抗電子束處理層，以降低熱點溫度，並有助於最大程度地減少電子束輻照損傷。Centura I還提供一系列創新功能和高級流程功能,如直觀的軟件界面、集成的自動定心、現場備份和流程控制自動化功能。該機還具有過程的實時可視化，並具有控制氣流和壓力水平以進行精確沈積控制的能力。該工具由一個可更換的感應板組成，具有高度均勻的功率分配。該板由電熱的石墨板組成，用作基板的安裝表面。在沈積過程開始之前，這種感應板是預熱的，並確保了均勻的溫度分布。該資產配備了高速定位模型，在沈積循環的整個過程中以10厘米/秒的最大同質速度移動基板。此外，該設備還可以補償基板的熱誘導運動，並配有專門的鎖定機構，以確保安全和分布良好的沈積。采用集成旁路流量控制裝置進一步提高了系統的性能.這臺機器使用戶能夠創建精確的氣流以進行精確的沈積控制。此外,該工具還包括一個高級實時優化（RTO）模塊,用於現場過程控制和優化。該模塊旨在實時優化工藝參數，提供精確準確的沈積結果。總體而言，AMAT/APPLIED MATERIALS Centura I反應堆是一種創新的尖端半導體加工資產，設計用於在晶圓基板上沈積介電膜和導電膜。該模型具有精確的沈積控制、良好的均勻性和可重復性.它還旨在通過使用專門特性和加工氣體確保精確和準確的沈積結果。