二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura I #9184826 待售
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單擊可縮放
ID: 9184826
晶圓大小: 8"
WCVD System, 8"
WxZ
(3) Chambers
Main body
ENI Generator rack
Monitor rack
System controller
(4) Covers
(2) Cables
Mainframe: Centura I Phase I
Chamber A:
Type: WXZ
RF Generator: OEM-12B
RF Match: Phase IV
Process kit: 200mm
Heater: Ceramic
Back side baratron: MKS 100T
Purge MFC: AR 2000
Lid Assembly: STD
Process baratron:
MKS 100T
MKS 1T
Chamber B:
Type: WXZ
RF Generator: OEM-12B
RF Match: Phase IV
Process kit: 200mm JMF
Heater: Ceramic
Back side baratron: MKS 100T
Purge MFC: AR 2000
Lid Assembly: STD
Process baratron:
MKS 100T
MKS 1T
Chamber D:
Type: WXZ
RF Generator: OEM-12B
RF Match: Phase IV
Heater: Ceramic
Back side baratron: MKS 100T
Purge MFC: AR 2000
Lid Assembly: STD
Process baratron:
MKS 100T
MKS 1T
Chamber E: Single cool
Chamber F: Oriental
Robot: HP
Load lock: Wide body
Gas box: CI
No heat exchanger
Umbilical length:
CA Chamber A, B, C & D: 50 FT
Gas configuration:
Chamber A, B & D:
WF6 / 200
WF6 / 50
C2F6 / 500
AR / 3000
O2 / 1000
SiH4 / 300
H2 / 500
H2 / 2000
N2 / 300
Control rack:
Serial isolator
System reset
(2) Lk Det 1&2 / Conv/TC
No floppy disk drive
No hard disk drive
Chamber interfaces: A, B, D & E
Mainframe interface
Loadlock interface
Chamber A, B, D: DI/O 1&2
No chamber C: DI/O 1&2
Chamber E: DI/O
Synergy SBC
No controller, 486 V
No APC VME Seriplex PCB
SEI
Chamber A, B, D: AI/O
No chamber C AI/O
Mainframe AI/O
Chamber E/MF AI/O 2
(6) Mainframes DI/O
(3) Steppers
OMS.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura I是一種緊湊、大體積、高性能的化學氣相沈積（CVD）反應器，設計用於各種材料的薄膜的單室或雙室沈積。AMAT Centura I反應堆設計為單室設備，帶有封閉的大氣壓反應堆室。該系統由一個強大的變頻感應加熱裝置提供動力，能夠達到1,000 °C的溫度。金屬蒸氣反應物通過頂部引入反應室，而底物則從正面裝卸。APPLIED MATERIALS Centura I反應堆裝有射頻發生器，提供了一種以多種方式控制過程的手段，包括功率控制、溫度控制、反應物流量控制、反應物混合物控制。封閉的沈積室是加壓的，允許亞微米薄膜沈積在包括金屬和半導體在內的一系列基板上。此外，Centura I反應堆具有變頻電源，可以精確控制過程。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura I反應器的封閉式沈積室設計為最大限度地減少雜質暴露，提供更好的薄膜質量。真空室由石英構成，帶有氧化鋁襯裏，為沈積過程提供惰性氣氛。該裝置采用極耐用的不銹鋼完成，防止基板受到汙染，並配有一個光學窗口，用於監測沈積過程。AMAT Centura I是一種經濟高效、高性能的CVD機器,可在各種材料上的高質量薄膜沈積過程中提供可靠的過程控制。操作簡單的工具能夠持續生產具有出色耐用性和可靠性的薄膜,使其成為原型制作和工業生產的熱門選擇。
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