二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura II DPS+ #293830296 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura II DPS+是一種高精度的化學氣相沈積（CVD）反應器。用於生產極薄且均勻的導電、絕緣和半導體薄膜。AMAT Centura II DPS+旨在滿足當今大批量EPI和HVM應用程序的需求,提供最高級別的精度、準確性和可重復性。該設備兼具高通量、最高溫度穩定性、低粒子發射以及復雜至簡單過程的獨立反應物控制能力。APPLIED MATERIALS Centura II DPS+系統具有創新的設計體系結構,允許使用直觀、易於使用的用戶界面進行高精度操作。它提供了廣泛的設備功能和選項。數字流量控制器和主機計算機提供了對沈積過程的精確控制，使基板形狀、尺寸和幾何形狀具有最大的靈活性。該機器旨在支持一系列CVD和EPI應用，包括薄膜的生產、電子元件的封裝和MEMS。該工具可沈積厚度在400至1000 nm之間的薄膜，典型氧化物沈積速率為90-200 nm/min，典型氮化物沈積速率為300-400 nm/min。該資產配備了全濕工藝模塊，利用專有的多區加熱浴技術，確保高溫均勻性和N2使用率低。該模型還采用水溶液自動陶瓷過濾器清洗，保證了高蝕刻室的清潔度和保持工藝質量。Centura II DPS+設備設計用於生產和研究優化應用的最佳輸出。該系統還具有可定制的硬件和軟件配置,可以靈活地滿足特定的客戶要求。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura II DPS+單元具有內置的安全功能,如氣體和電源聯鎖、壓力感應監視器、自動故障安全功能、多路復用器切換等。該機設計可靠，保證了可重復性和最高效率。簡而言之,AMAT Centura II DPS+是一種高精度的CVD工具,可提供最高級別的準確性、可重復性和控制。它是通用且可定制的設計,可用於各種CVD和EPI應用程序,提供最佳效果。APPLIED MATERIALS Centura II DPS+資產非常適合任何大批量生產或高級研究需求。