二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura II DPS+ #9029478 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura II DPS+反應堆是一種先進性能的蝕刻沈積設備，設計用於生產高質量的半導體器件。AMAT Centura II DPS+提供了先進的蝕刻和沈積能力，適合用於生產CPU、GPU和內存設備等集成電路。針對單、多課題蝕刻、PECVD、濺射、PVD、ALD和CVD等先進制造工藝進行了優化，可用於多種集成電路制造應用。該系統專為高吞吐量而設計，最多可容納三個處理室。它旨在容納各種加工氣體，包括N2、O2、NF3、CF4、SF6和Ar。它的晶圓敏感器還能使晶圓的高計數達到150 mm或200 mm。此外,APPLIED MATERIALS Centura II DPS+提供了一個寬廣的工藝窗口,在整個基板上具有出色的均勻性,並且可以與傳統的蝕刻工藝（如ICP、RIE和多晶片蝕刻）集成在一起,以改進工藝控制。Centura II DPS+利用壓力伺服控制平臺來確保熱量管理,此功能消除了在其他系統中可能發生的溫度幹擾。該反應堆利用專有的熱區技術來減少點火延遲，並配有一個內置的閥門控制單元，以確保有效的晶圓預清洗。反應堆由光電池和主動冷卻裝置構成,能夠改進機器高性能操作的電源管理。此外，AMAT/APPLICED MATERIALS Centura II DPS+的設計便於維護，因為所有消耗品和備件都位於反應堆的正面。最後,AMAT Centura II DPS+配備了用戶友好的AMAT Osmic™軟件包,用於監視和控制工具的操作。該軟件允許操作員自定義資產的設置和參數,並有效地排除問題。該模型提供可靠的開箱即用性能,即使在最小的操作員調整下也能獲得可靠且可重復的結果。它還通過其內置的自動清洗順序確保了可靠的室內清洗過程。綜上所述，APPLIED MATERIALS Centura II DPS+是一個強大可靠的反應堆，能夠高效生產半導體器件。