二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura II DPS+ #9202744 待售
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ID: 9202744
晶圓大小: 8"
Metal etcher, 8"
(4) Chambers
Chamber type:
Loadlock: Wide
Robot: VHP+
Position A / B: Metal DPS+
Position C / D: ASP+
Position E: Fast cool down
Position F: Orienter
Chamber A and B:
Process: DPS+
Upper chamber body: Anodizing
Electrostatic chuck: Polyamide
SEIKO SEIKI STPH 1303C Turbo pump
DTCU: E-EDTU
Endpoint: Monochromator
Bias generator: OEM 12B (-08)
Bias match: 0010-36408
ENI GMW-25A Source generator, 2500 W
Throttle valve / Gate valve: VAT TGV
Chamber C and D:
Process kit: Chuck
Auto tuner: Smart match 3750-01106
MAGNETRON Head: 0190-09769
ASTEX AX2115 Generator
Process control: Manometer
Gas box:
VDS Type: 750 SCCM
IHC Module: MKS 649
Transfer chamber:
Manual lid hoist
Robot: VHP+
Umbilical cable: 55 Feet
2001 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura II DPS+是為生產用途而設計的高度先進的等離子體處理系統。這種多室、三站式反應堆在整體緊湊封裝中提供了最大的特性，用於沈積、蝕刻和源室功能。AMAT Centura II DPS+反應堆經過優化,以實現經濟高效的生產率和均勻性,提高了吞吐量和工藝控制。APPLIED MATERIALS Centura II DPS+的EMS腔室是針對不同基板上的半導體外延沈積而設計的。它被用於多種應用中，如矽的、GaN、金剛石和碳納米管。該反應堆包括一個寬能量帶寬的熔爐，它提供高沈積速率和特殊的均勻性。此外,內置的自動掃描功能允許用戶最多編程五種配方。Centura II DPS+的EOS腔室是一種高度通用的蝕刻系統。它支持濕、幹和混合加工技術，包括金屬和半導體的蝕刻。腔室配備了功率、壓力、溫度、流量等多個蝕刻參數的精確控制。該系統旨在最大限度地提高工藝靈活性和均勻性，允許不同的基板和基板尺寸。最後，AMAT/APPLIED MATERIALS Centura II DPS+的源腔為沈積前體提供了可靠的來源。它配備了一個大容量旋轉閥，設計用於處理各種汽化材料。該室還具有快速的重新激活速率和非常低的動態壓力。這些特性有助於顯著提高流程穩定性。總體而言，AMAT Centura II DPS+反應堆是一個可靠而強大的工具，非常適合生產使用。憑借其強大的多室、三站設計，用戶可以受益於改進的散熱和腔室均勻性以及最大吞吐量。該反應器能夠處理不同的沈積、蝕刻和源過程，對多參數進行精確控制，是滿足制造需要的最佳選擇。
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