二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura II DPS+ #9358593 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura II DPS+是為半導體器件制造而設計的多功能深紫外線（DUV）光敏處理反應器。它能夠以很高的精度和吞吐量同時處理多個光刻膠層。該反應堆具有先進的晶片處理自動化，使其能夠滿足對低k1和低Dk光刻膠日益嚴格的生產需求。DUV輻射源是一個350W氘燈和一個反射鏡。該反射器旨在優化單模光束產生的DUV輻射劑量。輻射直接對準在反應器的敏感器中保持的樣品晶片。感光器被燈加熱到均勻的溫度，然後調節溫度以匹配加工過程中使用的光刻膠。該反應堆還具有先進的晶圓處理機構和三級夾緊系統，可確保高工藝均勻性。該系統還包括真空卡盤，便於裝卸。反應器有三個獨立的靜電夾，將樣品固定在適當的位置，以確保可重現和可重復的過程。反應堆具有反應性氣體輸送系統，壓力高達100 mTorr，可實現低k1和低Dk輻照。該反應堆還具有較低的熱預算，提高了均勻性和吞吐量。它配有溫度控制器，可調節感光器± 1 °C。磁感器溫度是通過內置熱陣列測量的。此外，反應堆有一個清潔站，在每個過程後通常用來清除反應堆的汙染物。AMAT Centura II DPS+是任何高質量、高精度光刻處理需求的理想選擇。它非常適合在復雜的工藝中使用，例如制造低k1和低Dk材料。因此，它是前沿半導體器件研究和制造的絕佳選擇。