二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura II DPS #9402435 待售

AMAT/APPLICED MATERIALS Centura II DPS是為高級研發和生產應用而設計的大批量批處理薄膜沈積設備。該系統設計為提供快速可靠的薄膜生長方法，適用於矽集成電路制造工藝中的多種應用，如濺射蝕刻、電介質沈積等先進工藝步驟。該單元包括兩個模塊：薄膜沈積模塊和濺射模塊，該模塊可提供對單個腔室中沈積速率的精確控制；兩者都由直流（DC）等離子體源和射頻（RF）等離子體源的組合供電。薄膜沈積模塊利用射頻功率在基板上產生等離子體和沈積膜。該工藝可用於沈積厚度達50納米的薄膜，具有極好的可重復性。DC和RF源可以結合使用，控制材料通過沈積室的流動。該室包括溫控真空卡盤和運動控制運輸機。運動控制可以精確控制沈積速率，保證膜的均勻性。運輸工具還提供了一種快速、簡便的方法，無需人工幹預即可將基板從一個腔室移動到另一個腔室，從而縮短了循環時間。濺射模組是利用氙氣產生一個離子源，用於蝕刻和濺射膜到基板上。資產能夠加工直徑最大為10英寸的基板，並利用可調節的直流功率來控制蝕刻速率。濺射模組的設計提供了均勻性和可重現性，同時也提供了對膠片質量的高度控制。AMAT Centura II DPS是一種高科技生產解決方案,可提供可靠和一致的結果。該模型被設計為提供快速、精確的薄膜沈積，同時也允許用戶調整參數以達到期望的效果。DC和RF源的結合以及較高的控制水平保證了薄膜的可重復性和均勻性。