二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura II eMax #9260047 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura II eMax反應堆是一種用於半導體制造的高溫高壓工藝室。全設備由集成式熱交換器和壓力控制系統、高純度氣體輸送、超高真空（UHV）環境以及一套原位計量工具組成。AMAT Centura II eMax反應堆的設計具有卓越的工藝控制和可重復性,能夠可靠地制造前沿多層半導體器件。APPLIED MATERIALS Centura II eMax的核心是溫度較高、壓力較高的工藝室。該腔室的溫度可高達900 °C，並且在一個大氣中包含壓力。由於Centura II eMax高效的設計和精密的電源/電氣配置,它可以快速加熱或冷卻,從而實現高效的循環時間。此外，該工藝室是自我監控的，並提供了工藝溫度和壓力的實時視圖。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura II eMax還配備了先進的集成熱交換器和壓力控制單元。這種集成的機器根據獨特的光刻工藝，智能調節工藝室的溫度和壓力。該工具確保了工藝室的精確調節，無論制造的是半導體層。集成資產還可以節省成本,因為不需要額外的外部組件。AMAT Centura II eMax包括用於CVD（化學氣相沈積）和其他工藝的高純度氣體輸送。它們包括源氣體以及排氣/凈化系統。這允許用戶針對不同的半導體需求創建廣泛的材料化學體系。APPLIED MATERIALS Centura II eMax包含超高真空（UHV）環境，以提供最大的工藝純度。這種特高壓環境確保揮發性顆粒、汙染物或氣體不會損害半導體晶片的性能或質量。此外，特高壓環境還有助於減少汙染，因為某些顆粒和氣體很容易從室內清除。在原位計量學方面，Centura II eMax提供了頂級的線路功能。這包括能夠監控晶片的材料沈積速率和輪廓,以及在處理過程中監控設備性能。此外,AMAT/APPLIED MATERIALS Centura II eMax還提供了測量不同材料的薄膜厚度、使用高級配方控制自動調整腔室條件以及可視化所創建的不同層的功能。AMAT Centura II eMax模型是為先進半導體制造而設計的線路反應堆頂部。它強大而先進的特性，使得高性能半導體晶片的處理更加精確和可重復。這是通過先進的工藝室、集成的換熱器/壓力控制設備、高純度氣體輸送、超高真空環境以及一套原位計量工具實現的。