二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura II IPS #115406 待售
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已售出
ID: 115406
優質的: 2001
dielectric etch system
Install type: Stand Alone
CE Marked
Cassette Interface:
(2) Bolt-on Asyst LPT-2200
Centura II M/F
Robot: HP+ Extended Reach w/Single Blade (Ceramic)
Manual Lid Lift Assist
Load Locks:
Wide-Body w/Auto-Rotation for cassettes
Enhanced wafer mapping (fast-detect)
Chambers:
Ch-E: Blank
Ch-F: Standard Orienter
Ch-A, B, C& D: IPS
ESC Pedestal w/Helium Cooling
RF Generators: Astex Model 80-510-HP
Turbo: Leybold MAG2010C
Throttle Valve: NorCal
H.O.T. Endpoint
Chiller Dome: Bay Voltex LT-HRE
Chiller Cathode: Bay Voltex LT-HRE
Gas Box Config (Pallet modules):
Bottom Feed SLD Gas Panel
Bottom Exhaust w/Vane Switch
GP Controller: VME II
75 feet Umbilicals
System Controller:
66” IPS Controller
Bottom Feed AC, Top Exhaust
30mA GFI
AC Rack:
Main AC Rack IPS Position AB
Secondary AC Rack IPS Position CD
2001 vintage
As-is, where-is.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura II IPS是一種先進的多晶圓制造反應堆設備，用於半導體制造過程。該反應堆系統可執行高溫高壓反應性離子蝕刻（RIE）、等離子體增強化學氣相沈積（PECVD）等先進制造工藝。該設備每小時可處理多達200個晶圓,其晶圓尺寸可達8英寸。該機設計為提供安全、經濟高效的生產過程，同時保持精度和可重復性。AMAT Centura II IPS配備了獨一無二的IPS腔室，該腔室有兩個獨立的工藝區，允許用戶獨立控制這些腔室中的每一個腔室的氣流和溫度。IPs腔室還提供比整個腔室更高的溫度均勻性，從而產生更均勻的處理結果。反應堆還設有一個大的隔室板，允許更大和更復雜的設計規則。該工具還利用高壓電源,實現了更快的無功離子蝕刻。資產可以處理各種過程，包括蝕刻、沈積、平面化以及其他幾個與過程相關的任務。該模型還可以加工多種材料，如多晶矽、poly-SiO2、poly-SiN等多種材料。該設備還具有一系列安全功能，如冗余安全百葉窗、互鎖閥和防爆密封。該系統配備了先進的軟件和電子設備，能夠對反應堆環境進行更大程度的控制，實現高可重復性、準確性和質量。該單元還利用預測分析，允許在飽和發生之前預測過程缺陷和拒絕晶片。總之，APPLIED MATERIALS Centura II IPS是一種高度先進、效率極高的多晶圓制造反應堆機器。它能夠每小時處理多達200個晶圓，同時保持高精度和可重復性。獨特的IPS腔室和其他安全功能使工具安全、經濟高效。先進的軟件和電子設備可以更好地控制反應堆環境，從而提高產量，減少中斷。
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