二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura II #9130163 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura II反應器是一種用於處理半導體晶圓的工具。該反應堆是一種先進的高通量、經濟高效的等離子體蝕刻和沈積設備，能夠支持各種技術的生產。隨著最先進的自動化，AMAT Centura II反應堆具有處理大批量生產和處理各種高質量、重復性和可靠性任務的能力。該機器由一個中央加工室組成，連接到一個鎖載室和等離子體源。應用材料CENTURA-II反應器利用射頻（RF）等離子體技術，可用於有機和無機材料的蝕刻和沈積。腔室溫度和壓力可以精確控制，內部壓力可以在10 mTorr到10 Torr之間，而溫度可以在4˚C到50˚C之間。該工具利用了多種集成的加工源，能夠控制工藝氣體流動、壓力、射頻功率和磁場配置。CENTURA-II反應堆裝有無柵格內部電極（GIE）系統，由兩個同心三角形電極和兩個同心環組成。這些環提供均勻的電場，以提高晶圓均勻性和更快的工藝速度。該單元還降低了維護成本，因為不需要網格更換。Centura II反應堆有次大氣過程（Sub-Atmospheric Process，SAP）機器，它允許更快的蝕刻速度，低的單晶圓電占空比，低的氣流和最小的汙染。AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA-II反應堆提供高精度性能，交付精度精度為+/-0.005英寸，產生高質量的過程結果，粒數低，均勻性和提高晶圓產量。反應堆還配備了一套先進的監測和自動化軟件，使用戶可以根據自己的具體要求定制設置。APPLIED MATERIALS Centura II反應器的優異性能和靈活性使其成為半導體工業生產和加工的理想蝕刻和沈積工具。它非常適合執行經濟高效且復雜的處理任務,並具有精確和可重復性。