二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura IPS #9204132 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura IPS是一種單晶圓納米級器件制造設備，設計用於研究、開發和制造最先進的半導體器件。該系統由一個脈沖電感耦合等離子體（ICP）源提供動力，使離子能量和快速響應時間極低。獲得專利的同軸離子源通過控制施加的電壓和壓力，提供了對等離子體護套尺寸和形狀進行精細控制的獨特特點。其計算機控制操作提供了全面的過程控制，使得AMAT Centura IPS適合廣泛的應用。ICP源使用兩個具有頂部（內部）和底部（外部）線圈的線圈,這些線圈可以用正弦波形通電,並通過可調相移同步。ICP源在流動氣體存在的情況下產生控制良好的脈沖等離子體放電，從而允許對材料進行控制良好的加工進入所需狀態。晶片托盤位於ICP源的電極之間的處理腔中。從ICP源發出狹窄的等離子體能量束，定義了一系列在可重復循環中發生的過程步驟。這個單元使各種材料，如二氧化矽、氮化矽和聚合物能夠蝕刻和沈積到不同大小和形狀的基板上。APPLIED MATERIALS Centura IPS有兩種不同的工藝,每種工藝都有可定制的參數,可以將反應性材料精確地沈積或蝕刻到納米級。蝕刻工藝包括與低溫沈積工藝相同的參數，具有可選的光刻剝離性能。簡單的用戶設置和參數允許重復和快速的流程周期。Centura IPS配備了集成的端點監視器,它允許對等離子體過程和預定端點檢測進行準確且可重復的監控。通過監測等離子體參數，機器進行自我調整，以確保在沈積和蝕刻過程中保持預期的基板和工藝溫度範圍。集成端點監控器還提供了一種經濟高效的方法來消除多重測量障礙，因為離子能量、離子通量角和工藝參數的其他位移可以根據需要進行補償。該工具還采用了一種高度敏感的粒子檢測方法，旨在檢測基板表面極低水平的粒子。此方法允許快速輕松地進行過程評估、優化和端點監控。最終結果是以最大均勻度精確控制批次晶片，從而提高了性能，提高了產品產量，降低了成本。此外,AMAT/APPLIED MATERIALS Centura IPS具有很高的吞吐量能力,每小時可生產超過25個晶圓,或8小時輪班生產150個晶圓。總體而言，AMAT Centura IPS是最先進的單晶圓器件制造系統之一，其專利同軸離子源提供了對等離子體護套尺寸和形狀的精細控制。該資產具有出色的過程控制功能,集成了端點監視器和用戶友好的設置,使其適合各種應用程序。APPLIED MATERIALS Centura IPS堅韌可靠,具有高吞吐量能力,可提高性能、產品產量和成本。